等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

申请号：

CN202210576813.X

申请日：

2022-05-25

公开(公告)号：

CN115440563A

公开(公告)日：

2022-12-06

发明(设计)人：

贝岛祥

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01J37244

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-06	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

王汤贵 ;

大石哲也 ;

浦川理史 ;

森北信也 .

日本专利 :CN119522474A ,2025-02-25

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

中山博之 ;

增泽健二 ;

本田昌伸 .

中国专利 :CN101515545B ,2009-08-26

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

丸山幸儿 ;

堀口将人 ;

松木哲理 ;

舆石公 .

中国专利 :CN105379428B ,2016-03-02

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

上坂友佑人 ;

斋野高遥 .

日本专利 :CN119404600A ,2025-02-07

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

及川翔 ;

石川学 ;

熊谷裕贵 ;

佐藤悠贵 ;

今桥拓巳 ;

黑田亮 .

日本专利 :CN120077467A ,2025-05-30

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

木原嘉英 ;

本田昌伸 ;

久松亨 .

中国专利 :CN105316639B ,2016-02-10

[8]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

本田昌伸 .

中国专利 :CN102209426B ,2011-10-05

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

高桥慎伍 ;

黄仁宏 .

日本专利 :CN116803213B ,2025-02-14

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

桧森慎司 .

日本专利 :CN119173984A ,2024-12-20

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