等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380048628.6

申请日：

2023-04-14

公开(公告)号：

CN119404600A

公开(公告)日：

2025-02-07

发明(设计)人：

上坂友佑人斋野高遥

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

H05H1/46

IPC分类号：

C23C16/505 H01L21/205 H01L21/3065

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;池兵

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-07	公开	公开
2025-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/46申请日:20230414

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

桧森慎司 .

日本专利 :CN119173984A ,2024-12-20

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

日本专利 :CN117480870B ,2024-06-28

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

王汤贵 ;

大石哲也 ;

浦川理史 ;

森北信也 .

日本专利 :CN119522474A ,2025-02-25

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

丸山幸儿 ;

堀口将人 ;

松木哲理 ;

舆石公 .

中国专利 :CN105379428B ,2016-03-02

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

及川翔 ;

石川学 ;

熊谷裕贵 ;

佐藤悠贵 ;

今桥拓巳 ;

黑田亮 .

日本专利 :CN120077467A ,2025-05-30

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

日本专利 :CN113936985B ,2025-03-11

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

鸟井夏实 ;

永海幸一 .

中国专利 :CN113948364A ,2022-01-18

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

日本专利 :CN117480870A ,2024-01-30

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

M·F·宾·布迪曼 .

日本专利 :CN119013771A ,2024-11-22

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