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等离子体处理装置和等离子体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202280042070.6
申请日
:
2022-06-14
公开(公告)号
:
CN117480870B
公开(公告)日
:
2024-06-28
发明(设计)人
:
舆水地盐
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H05H1/46
IPC分类号
:
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;刘芃茜
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-20
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/46申请日:20220614
2024-01-30
公开
公开
2024-06-28
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
舆水地盐
.
日本专利
:CN117480870A
,2024-01-30
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
丸山幸儿
论文数:
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丸山幸儿
;
堀口将人
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堀口将人
;
松木哲理
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松木哲理
;
舆石公
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0
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0
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舆石公
.
中国专利
:CN105379428B
,2016-03-02
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
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进藤崇央
;
冈本清一
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冈本清一
;
大友洋
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大友洋
;
菊地贵伦
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菊地贵伦
;
松土龙夫
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松土龙夫
;
森田靖
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森田靖
;
佐久间隆
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佐久间隆
.
中国专利
:CN113936985A
,2022-01-14
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
上坂友佑人
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
上坂友佑人
;
斋野高遥
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
斋野高遥
.
日本专利
:CN119404600A
,2025-02-07
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
;
冈本清一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈本清一
;
大友洋
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大友洋
;
菊地贵伦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
菊地贵伦
;
松土龙夫
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松土龙夫
;
森田靖
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森田靖
;
佐久间隆
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐久间隆
.
日本专利
:CN113936985B
,2025-03-11
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
鸟井夏实
论文数:
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鸟井夏实
;
永海幸一
论文数:
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永海幸一
.
中国专利
:CN113948364A
,2022-01-18
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
M·F·宾·布迪曼
论文数:
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
M·F·宾·布迪曼
.
日本专利
:CN119013771A
,2024-11-22
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
鸟井夏实
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
鸟井夏实
;
永海幸一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永海幸一
.
日本专利
:CN113948364B
,2025-10-31
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
舆水地盐
;
桧森慎司
论文数:
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
桧森慎司
.
日本专利
:CN119173984A
,2024-12-20
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
池田太郎
论文数:
0
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池田太郎
.
中国专利
:CN1554114A
,2004-12-08
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