等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110773998.9

申请日：

2021-07-08

公开(公告)号：

CN113948364B

公开(公告)日：

2025-10-31

发明(设计)人：

鸟井夏实永海幸一

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01L21/3065

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;池兵

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-31	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

鸟井夏实 ;

永海幸一 .

中国专利 :CN113948364A ,2022-01-18

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

日本专利 :CN117480870B ,2024-06-28

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松本直树 ;

舆水地盐 ;

舆石公 .

中国专利 :CN100446637C ,2006-10-04

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

丸山幸儿 ;

堀口将人 ;

松木哲理 ;

舆石公 .

中国专利 :CN105379428B ,2016-03-02

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

上坂友佑人 ;

斋野高遥 .

日本专利 :CN119404600A ,2025-02-07

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

日本专利 :CN113936985B ,2025-03-11

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

木原嘉英 ;

本田昌伸 ;

久松亨 .

中国专利 :CN105316639B ,2016-02-10

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

日本专利 :CN117480870A ,2024-01-30

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

M·F·宾·布迪曼 .

日本专利 :CN119013771A ,2024-11-22

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