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等离子体处理装置和等离子体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200610067101.6
申请日
:
2006-03-31
公开(公告)号
:
CN100446637C
公开(公告)日
:
2006-10-04
发明(设计)人
:
松本直树
舆水地盐
舆石公
申请人
:
申请人地址
:
日本国东京都
IPC主分类号
:
H05H146
IPC分类号
:
H01J3732
H01L213065
代理机构
:
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人
:
龙淳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2008-12-24
授权
授权
2006-12-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-10-04
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN101847558B
,2010-09-29
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
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进藤崇央
;
冈本清一
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冈本清一
;
大友洋
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大友洋
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菊地贵伦
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菊地贵伦
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松土龙夫
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松土龙夫
;
森田靖
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森田靖
;
佐久间隆
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佐久间隆
.
中国专利
:CN113936985A
,2022-01-14
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
;
冈本清一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈本清一
;
大友洋
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大友洋
;
菊地贵伦
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
菊地贵伦
;
松土龙夫
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松土龙夫
;
森田靖
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森田靖
;
佐久间隆
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐久间隆
.
日本专利
:CN113936985B
,2025-03-11
[5]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
永海幸一
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永海幸一
;
大下辰郎
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大下辰郎
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永关一也
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永关一也
;
桧森慎司
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桧森慎司
.
中国专利
:CN110416075A
,2019-11-05
[6]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
永海幸一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永海幸一
;
大下辰郎
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大下辰郎
;
永关一也
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永关一也
;
桧森慎司
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
桧森慎司
.
日本专利
:CN110416075B
,2024-03-29
[7]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
李诚泰
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李诚泰
;
土桥和也
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土桥和也
.
中国专利
:CN102347231B
,2012-02-08
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
东条利洋
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东条利洋
;
藤井祐希
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藤井祐希
.
中国专利
:CN107275179A
,2017-10-20
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
岩田学
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岩田学
;
中山博之
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中山博之
;
增泽健二
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增泽健二
;
本田昌伸
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本田昌伸
.
中国专利
:CN101515545B
,2009-08-26
[10]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
永海幸一
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永海幸一
;
藤原一延
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藤原一延
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大下辰郎
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大下辰郎
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道菅隆
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道菅隆
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丸山幸儿
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丸山幸儿
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永关一也
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永关一也
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桧森慎司
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桧森慎司
.
中国专利
:CN113451101A
,2021-09-28
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