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等离子体处理方法和等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910332423.6
申请日
:
2019-04-24
公开(公告)号
:
CN110416075A
公开(公告)日
:
2019-11-05
发明(设计)人
:
永海幸一
大下辰郎
永关一也
桧森慎司
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L213065
IPC分类号
:
H01J3732
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-02-12
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20190424
2019-11-05
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
松本直树
论文数:
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松本直树
;
舆水地盐
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舆水地盐
;
舆石公
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舆石公
.
中国专利
:CN100446637C
,2006-10-04
[2]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
永海幸一
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永海幸一
;
大下辰郎
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大下辰郎
;
永关一也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
永关一也
;
桧森慎司
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
桧森慎司
.
日本专利
:CN110416075B
,2024-03-29
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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0
舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
岩田学
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岩田学
;
中山博之
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中山博之
;
增泽健二
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增泽健二
;
本田昌伸
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本田昌伸
.
中国专利
:CN101515545B
,2009-08-26
[5]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
永海幸一
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永海幸一
;
藤原一延
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藤原一延
;
大下辰郎
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大下辰郎
;
道菅隆
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道菅隆
;
丸山幸儿
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丸山幸儿
;
永关一也
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永关一也
;
桧森慎司
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桧森慎司
.
中国专利
:CN113451101A
,2021-09-28
[6]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
大矢欣伸
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大矢欣伸
;
田边明良
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田边明良
;
安田吉纪
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安田吉纪
.
中国专利
:CN104599930A
,2015-05-06
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN101847558B
,2010-09-29
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
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进藤崇央
;
冈本清一
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冈本清一
;
大友洋
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大友洋
;
菊地贵伦
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菊地贵伦
;
松土龙夫
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松土龙夫
;
森田靖
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森田靖
;
佐久间隆
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佐久间隆
.
中国专利
:CN113936985A
,2022-01-14
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
松本直树
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松本直树
;
早川欣延
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早川欣延
;
花冈秀敏
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花冈秀敏
;
儿玉法明
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儿玉法明
;
舆水地盐
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舆水地盐
;
岩田学
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岩田学
;
田中谕志
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田中谕志
.
中国专利
:CN101047113A
,2007-10-03
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
;
冈本清一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈本清一
;
大友洋
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大友洋
;
菊地贵伦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
菊地贵伦
;
松土龙夫
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松土龙夫
;
森田靖
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森田靖
;
佐久间隆
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐久间隆
.
日本专利
:CN113936985B
,2025-03-11
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