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等离子体处理装置和等离子体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110757947.7
申请日
:
2021-07-05
公开(公告)号
:
CN113936985A
公开(公告)日
:
2022-01-14
发明(设计)人
:
进藤崇央
冈本清一
大友洋
菊地贵伦
松土龙夫
森田靖
佐久间隆
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;徐飞跃
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20210705
2022-01-14
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
论文数:
0
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0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
;
冈本清一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈本清一
;
大友洋
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大友洋
;
菊地贵伦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
菊地贵伦
;
松土龙夫
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松土龙夫
;
森田靖
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森田靖
;
佐久间隆
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐久间隆
.
日本专利
:CN113936985B
,2025-03-11
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
东条利洋
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东条利洋
;
藤井祐希
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藤井祐希
.
中国专利
:CN107275179A
,2017-10-20
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
金子和史
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金子和史
.
中国专利
:CN114302547A
,2022-04-08
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
塚原利也
;
山边周平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山边周平
;
谷地晃汰
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
谷地晃汰
;
佐藤徹治
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
内田阳平
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
铃木步太
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木步太
;
田村洋典
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田村洋典
;
花冈秀敏
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
花冈秀敏
;
佐佐木淳一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木淳一
.
日本专利
:CN111261511B
,2024-06-18
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
松本直树
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松本直树
;
舆水地盐
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舆水地盐
;
舆石公
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舆石公
.
中国专利
:CN100446637C
,2006-10-04
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
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塚原利也
;
山边周平
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山边周平
;
谷地晃汰
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谷地晃汰
;
佐藤徹治
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佐藤徹治
;
内田阳平
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内田阳平
;
铃木步太
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铃木步太
;
田村洋典
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田村洋典
;
花冈秀敏
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花冈秀敏
;
佐佐木淳一
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佐佐木淳一
.
中国专利
:CN111261511A
,2020-06-09
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
丸山幸儿
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丸山幸儿
;
堀口将人
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堀口将人
;
松木哲理
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松木哲理
;
舆石公
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0
舆石公
.
中国专利
:CN105379428B
,2016-03-02
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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舆水地盐
;
山泽阳平
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山泽阳平
.
中国专利
:CN101847558B
,2010-09-29
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
吹野康彦
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吹野康彦
;
丸山智久
论文数:
0
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0
丸山智久
.
中国专利
:CN103839748A
,2014-06-04
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