学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
等离子体处理装置和等离子体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911220416.3
申请日
:
2019-12-03
公开(公告)号
:
CN111261511A
公开(公告)日
:
2020-06-09
发明(设计)人
:
塚原利也
山边周平
谷地晃汰
佐藤徹治
内田阳平
铃木步太
田村洋典
花冈秀敏
佐佐木淳一
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L213065
IPC分类号
:
H01J3732
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-21
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20191203
2020-06-09
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
塚原利也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
塚原利也
;
山边周平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山边周平
;
谷地晃汰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
谷地晃汰
;
佐藤徹治
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤徹治
;
内田阳平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内田阳平
;
铃木步太
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木步太
;
田村洋典
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田村洋典
;
花冈秀敏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
花冈秀敏
;
佐佐木淳一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木淳一
.
日本专利
:CN111261511B
,2024-06-18
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
进藤崇央
;
冈本清一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
冈本清一
;
大友洋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大友洋
;
菊地贵伦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
菊地贵伦
;
松土龙夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松土龙夫
;
森田靖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
森田靖
;
佐久间隆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐久间隆
.
中国专利
:CN113936985A
,2022-01-14
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
;
冈本清一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈本清一
;
大友洋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大友洋
;
菊地贵伦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
菊地贵伦
;
松土龙夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松土龙夫
;
森田靖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森田靖
;
佐久间隆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐久间隆
.
日本专利
:CN113936985B
,2025-03-11
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
舆水地盐
;
山泽阳平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
东条利洋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
东条利洋
;
藤井祐希
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
藤井祐希
.
中国专利
:CN107275179A
,2017-10-20
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
堀口贵弘
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
堀口贵弘
;
冈信介
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
冈信介
.
中国专利
:CN100536634C
,2006-11-15
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
金子和史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金子和史
.
中国专利
:CN114302547A
,2022-04-08
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
里吉务
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
里吉务
;
佐藤亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐藤亮
;
佐佐木和男
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐佐木和男
;
齐藤均
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
齐藤均
.
中国专利
:CN100543944C
,2005-11-09
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
岩田学
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
岩田学
;
中山博之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中山博之
;
增泽健二
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
增泽健二
;
本田昌伸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
本田昌伸
.
中国专利
:CN101515545B
,2009-08-26
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
西野雅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
西野雅
;
真壁正嗣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
真壁正嗣
;
长山将之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
长山将之
;
半田达也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
半田达也
;
绿川良太郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
绿川良太郎
;
小林启悟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
小林启悟
;
仁矢铁也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
仁矢铁也
.
中国专利
:CN103959447A
,2014-07-30
←
1
2
3
4
5
→