半导体器件用密封玻璃、密封材料、密封材料糊料以及半导体器件及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201080033773.X
申请日
2010-07-29
公开(公告)号
CN102471137B
公开(公告)日
2012-05-23
发明(设计)人
高桥広树
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
C03C804
IPC分类号
C03C808 C03C810 C03C824 H01L2302
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
冯雅
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体密封材料以及使用该半导体密封材料的半导体密封方法 [P]. 
桥本幸市 .
中国专利 :CN102046548A ,2011-05-04
[2]
半导体器件的制造方法、半导体器件及密封材料 [P]. 
铃木克彦 .
日本专利 :CN121002654A ,2025-11-21
[3]
半导体密封材料用黑色复合颗粒和半导体密封材料 [P]. 
森井弘子 ;
下畑祐介 ;
林一之 .
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[4]
膜状半导体密封材料 [P]. 
福原佳英 ;
齐藤裕美 ;
发地丰和 .
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[5]
半导体用密封材料 [P]. 
二田完 ;
佐藤和也 .
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[6]
光半导体密封材料 [P]. 
武部智明 ;
太田刚 ;
小幡宽 ;
樋口弘幸 .
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[7]
光半导体密封材料 [P]. 
太田刚 ;
行政慎一 ;
小幡宽 ;
武部智明 .
中国专利 :CN101432357B ,2009-05-13
[8]
半导体用密封材料 [P]. 
二田完 ;
佐藤和也 .
中国专利 :CN108369928A ,2018-08-03
[9]
半导体制造装置用密封材料 [P]. 
先曾洋一 ;
黑田路 .
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[10]
半导体制造装置用密封材料 [P]. 
村田慧 ;
森田慎也 ;
铃木正志 .
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