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等离子处理装置以及等离子处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910037872.8
申请日
:
2019-01-15
公开(公告)号
:
CN110752136A
公开(公告)日
:
2020-02-04
发明(设计)人
:
徐浩
内田丈滋
中元茂
福地功祐
井上智己
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
H01L213065
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
高颖
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-02-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20190115
2020-02-04
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
置田尚吾
论文数:
0
引用数:
0
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0
置田尚吾
;
针贝笃史
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针贝笃史
;
松原功幸
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0
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松原功幸
.
中国专利
:CN106024566A
,2016-10-12
[2]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
置田尚吾
论文数:
0
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置田尚吾
;
针贝笃史
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针贝笃史
;
松原功幸
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松原功幸
.
中国专利
:CN106024682A
,2016-10-12
[3]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
江崎隆
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
江崎隆
;
广田侯然
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
广田侯然
;
池永和幸
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
池永和幸
;
角屋诚浩
论文数:
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0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
角屋诚浩
.
日本专利
:CN119895545A
,2025-04-25
[4]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
置田尚吾
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置田尚吾
;
针贝笃史
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针贝笃史
;
松原功幸
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松原功幸
.
中国专利
:CN106024565B
,2016-10-12
[5]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
置田尚吾
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置田尚吾
.
中国专利
:CN104616958B
,2015-05-13
[6]
等离子处理方法以及等离子处理装置
[P].
松井都
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松井都
;
桑原谦一
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桑原谦一
;
臼井建人
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臼井建人
;
小林浩之
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小林浩之
.
中国专利
:CN111801775A
,2020-10-20
[7]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
市川贵大
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
市川贵大
;
弘中嘉之
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
弘中嘉之
;
大越康雄
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
大越康雄
.
日本专利
:CN115004864B
,2025-10-14
[8]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
玉利南菜子
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玉利南菜子
;
广田侯然
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广田侯然
;
角屋诚浩
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角屋诚浩
;
长谷征洋
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长谷征洋
.
中国专利
:CN113498546A
,2021-10-12
[9]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
中谷信太郎
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
中谷信太郎
;
一野贵雅
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
一野贵雅
;
近藤勇树
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
近藤勇树
.
日本专利
:CN119905448A
,2025-04-29
[10]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
臼井建人
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臼井建人
;
广田侯然
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广田侯然
;
井上智己
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井上智己
;
中元茂
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中元茂
;
福地功祐
论文数:
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福地功祐
.
中国专利
:CN110767581A
,2020-02-07
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