等离子处理装置以及等离子处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610032933.8

申请日：

2016-01-19

公开(公告)号：

CN106024566A

公开(公告)日：

2016-10-12

发明(设计)人：

置田尚吾针贝笃史松原功幸

申请人：

申请人地址：

日本国大阪府

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

柯瑞京

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-05	授权	授权
2016-10-12	公开	公开
2018-02-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20160119

共 50 条

[1]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

置田尚吾 ;

针贝笃史 ;

松原功幸 .

中国专利 :CN106024682A ,2016-10-12

[2]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

置田尚吾 ;

针贝笃史 ;

松原功幸 .

中国专利 :CN106024565B ,2016-10-12

[3]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

江崎隆 ;

广田侯然 ;

池永和幸 ;

角屋诚浩 .

日本专利 :CN119895545A ,2025-04-25

[4]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

徐浩 ;

内田丈滋 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

井上智己 .

中国专利 :CN110752136A ,2020-02-04

[5]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 .

日本专利 :CN113826189B ,2024-03-22

[6]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN113826189A ,2021-12-21

[7]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

西崎展弘 ;

针贝笃史 ;

岩井哲博 ;

广岛满 .

中国专利 :CN104143509B ,2014-11-12

[8]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

置田尚吾 ;

大西康博 .

中国专利 :CN102939648A ,2013-02-20

[9]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

西崎展弘 ;

针贝笃史 ;

岩井哲博 ;

广岛满 .

中国专利 :CN104143508B ,2014-11-12

[10]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

置田尚吾 .

中国专利 :CN104616958B ,2015-05-13

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