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微光刻投射曝光设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110456569.9
申请日：
2009-09-17
公开(公告)号：
CN113253576A
公开(公告)日：
2021-08-13
发明(设计)人：
萨沙.布莱迪斯特尔 关彦彬 弗洛里安.巴赫 丹尼尔.本兹 塞韦林.沃尔迪斯 阿明.沃伯
申请人：
申请人地址：
德国上科亨
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G02B2608 G02B7198
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王蕊瑞
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-08-31 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090917
2021-08-13 公开 公开
共 50 条
[1]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
萨沙.布莱迪斯特尔 ;
关彦彬 ;
弗洛里安.巴赫 ;
丹尼尔.本兹 ;
塞韦林.沃尔迪斯 ;
阿明.沃伯 .
中国专利 :CN104536271A ,2015-04-22
[2]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
萨沙.布莱迪斯特尔 ;
关彦彬 ;
弗洛里安.巴赫 ;
丹尼尔.本兹 ;
塞韦林.沃尔迪斯 ;
阿明.沃伯 .
中国专利 :CN108803249A ,2018-11-13
[3]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
萨沙·布莱迪斯特尔 ;
关彦彬 ;
弗洛里安·巴赫 ;
丹尼尔·本兹 ;
塞韦林·沃尔迪斯 ;
阿明·沃伯 .
中国专利 :CN102171615A ,2011-08-31
[4]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
萨沙.布莱迪斯特尔 ;
关彦彬 ;
弗洛里安.巴赫 ;
丹尼尔.本兹 ;
塞韦林.沃尔迪斯 ;
阿明.沃伯 .
德国专利 :CN113253576B ,2024-07-02
[5]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
迈克尔.莱 ;
马库斯.德冈瑟 ;
迈克尔.帕特拉 ;
约翰尼斯.万格勒 ;
曼弗雷德.莫尔 ;
达米安.菲奥尔卡 ;
冈杜拉.韦斯 .
中国专利 :CN103558738A ,2014-02-05
[6]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
B.克莱因 .
中国专利 :CN111487848A ,2020-08-04
[7]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
马库斯.德冈瑟 ;
迈克尔.帕特拉 ;
安德拉斯.G.梅杰 .
中国专利 :CN102349026A ,2012-02-08
[8]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
奥雷利安·多多克 ;
萨沙·布莱迪斯特尔 ;
奥拉夫·康拉迪 ;
阿里夫·卡齐 .
中国专利 :CN101821678B ,2010-09-01
[9]
微光刻投射曝光设备 [P]. 
迈克尔·莱 ;
马库斯·德冈瑟 ;
迈克尔·帕特拉 ;
约翰尼斯·万格勒 ;
曼弗雷德·莫尔 ;
达米安·菲奥尔卡 ;
冈杜拉·韦斯 .
中国专利 :CN101946212B ,2011-01-12
[10]
微光刻投射曝光设备和微光刻曝光方法 [P]. 
J.赫茨勒 ;
S.布雷迪斯特尔 ;
T.格鲁纳 ;
J.哈特杰斯 ;
M.施瓦布 ;
A.沃尔夫 .
中国专利 :CN103140805B ,2013-06-05
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