微光刻投射曝光设备和微光刻曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180046828.5

申请日：

2011-09-22

公开(公告)号：

CN103140805B

公开(公告)日：

2013-06-05

发明(设计)人：

J.赫茨勒 S.布雷迪斯特尔 T.格鲁纳 J.哈特杰斯 M.施瓦布 A.沃尔夫

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-07-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101486723144 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2011800468285 申请日:20110922
2015-12-02	授权	授权
2013-06-05	公开	公开

共 50 条

[1]

微光刻投射曝光设备 [P].

奥雷利安·多多克 ;

萨沙·布莱迪斯特尔 ;

奥拉夫·康拉迪 ;

阿里夫·卡齐 .

中国专利 :CN101821678B ,2010-09-01

[2]

微光刻投射曝光设备 [P].

马库斯.德冈瑟 ;

迈克尔.帕特拉 ;

安德拉斯.G.梅杰 .

中国专利 :CN102349026A ,2012-02-08

[3]

微光刻投射曝光设备和微光刻成像方法 [P].

J.赫茨勒 ;

A.格内梅尔 .

中国专利 :CN103154819A ,2013-06-12

[4]

微光刻投射曝光设备 [P].

萨沙.布莱迪斯特尔 ;

关彦彬 ;

弗洛里安.巴赫 ;

丹尼尔.本兹 ;

塞韦林.沃尔迪斯 ;

阿明.沃伯 .

中国专利 :CN104536271A ,2015-04-22

[5]

微光刻投射曝光设备 [P].

萨沙.布莱迪斯特尔 ;

关彦彬 ;

弗洛里安.巴赫 ;

丹尼尔.本兹 ;

塞韦林.沃尔迪斯 ;

阿明.沃伯 .

中国专利 :CN108803249A ,2018-11-13

[6]

微光刻投射曝光设备 [P].

迈克尔.莱 ;

马库斯.德冈瑟 ;

迈克尔.帕特拉 ;

约翰尼斯.万格勒 ;

曼弗雷德.莫尔 ;

达米安.菲奥尔卡 ;

冈杜拉.韦斯 .

中国专利 :CN103558738A ,2014-02-05

[7]

微光刻投射曝光设备 [P].

B.克莱因 .

中国专利 :CN111487848A ,2020-08-04

[8]

微光刻投射曝光设备 [P].

萨沙·布莱迪斯特尔 ;

关彦彬 ;

弗洛里安·巴赫 ;

丹尼尔·本兹 ;

塞韦林·沃尔迪斯 ;

阿明·沃伯 .

中国专利 :CN102171615A ,2011-08-31

[9]

微光刻投射曝光设备 [P].

萨沙.布莱迪斯特尔 ;

关彦彬 ;

弗洛里安.巴赫 ;

丹尼尔.本兹 ;

塞韦林.沃尔迪斯 ;

阿明.沃伯 .

中国专利 :CN113253576A ,2021-08-13

[10]

微光刻投射曝光设备 [P].

萨沙.布莱迪斯特尔 ;

关彦彬 ;

弗洛里安.巴赫 ;

丹尼尔.本兹 ;

塞韦林.沃尔迪斯 ;

阿明.沃伯 .

德国专利 :CN113253576B ,2024-07-02

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