一种超薄薄膜电化学沉积系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920274025.9

申请日：

2019-03-04

公开(公告)号：

CN210367951U

公开(公告)日：

2020-04-21

发明(设计)人：

叶颖辉

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市龙岗区龙城街道黄阁路441号龙岗天安数码创新园二号厂房A304

IPC主分类号：

C25D338

IPC分类号：

C25D510 C25D1712 C25D2112

代理机构：

北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265

代理人：

叶树明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-21	授权	授权

共 50 条

[1]

一种超薄薄膜电化学沉积系统 [P].

叶颖辉 .

中国专利 :CN109735880A ,2019-05-10

[2]

电化学沉积系统 [P].

阿瑟·凯格勒 ;

戴夫·瓜尔纳烚 ;

德梅特留斯·帕帕帕纳约图 ;

乔恩·汉德 ;

罗伯特·穆恩 .

中国专利 :CN112239881A ,2021-01-19

[3]

一种射流电化学沉积装置、电化学沉积系统装置及电化学沉积方法 [P].

施利君 ;

胡磊 ;

蒋新 .

中国专利 :CN115323449A ,2022-11-11

[4]

电化学沉积夹具 [P].

金俊成 .

中国专利 :CN206783798U ,2017-12-22

[5]

用于电化学沉积的夹具和电化学沉积装置 [P].

汤洋 ;

白安琪 ;

郭逦达 .

中国专利 :CN206330932U ,2017-07-14

[6]

用于电化学沉积的夹具和电化学沉积装置 [P].

汤洋 ;

郭逦达 ;

白安琪 ;

陈颉 .

中国专利 :CN204570074U ,2015-08-19

[7]

一种电化学沉积装置 [P].

张国才 ;

曹占锋 ;

闫俊伟 ;

麦轩伟 ;

王大军 ;

王宏 ;

董士豪 .

中国专利 :CN211689276U ,2020-10-16

[8]

一种电化学沉积装置 [P].

付丽 ;

林伊旻 ;

秦艾 .

中国专利 :CN214088721U ,2021-08-31

[9]

一种电化学沉积装置 [P].

谈浩琪 ;

梁宵 .

中国专利 :CN220887749U ,2024-05-03

[10]

水平式晶圆电化学沉积设备电化学沉积槽 [P].

祁志明 ;

李松松 ;

孙永胜 ;

李程 .

中国专利 :CN214937907U ,2021-11-30

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