清洗用组合物和半导体基板的清洗方法及半导体装置的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510001678.2

申请日：

2005-02-03

公开(公告)号：

CN1654617A

公开(公告)日：

2005-08-17

发明(设计)人：

金野智久洼田清信服部雅幸川桥信夫

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C11D337

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

北京金信联合知识产权代理有限公司

代理人：

南霆

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-10-12	实质审查的生效	实质审查的生效
2005-08-17	公开	公开
2011-09-14	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101183803755 IPC(主分类):C11D 3/37 专利申请号:2005100016782 公开日:20050817

共 50 条

[1]

半导体基板清洗用组合物、半导体基板的清洗方法、及半导体基板的制造方法 [P].

河合隆一郎 ;

窟江宏彰 ;

茂田麻里 ;

岛田宪司 .

日本专利 :CN119452454A ,2025-02-14

[2]

半导体装置的制造方法及半导体基板的清洗方法 [P].

大见忠弘 ;

寺本章伸 ;

长谷部类 ;

宫下雅之 .

中国专利 :CN102007578A ,2011-04-06

[3]

半导体部件清洗用组合物及半导体装置的制造方法 [P].

服部雅幸 ;

浪江祐司 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100410357C ,2005-12-28

[4]

清洗组合物、半导体基板的清洗方法以及半导体元件的制造方法 [P].

室祐继 ;

稻叶正 ;

上村哲也 .

日本专利 :CN117397010B ,2024-07-19

[5]

清洗组合物、半导体基板的清洗方法以及半导体元件的制造方法 [P].

室祐继 ;

稻叶正 ;

上村哲也 .

日本专利 :CN117397010A ,2024-01-12

[6]

清洗组合物、半导体基板的清洗方法、半导体元件的制造方法 [P].

室祐继 ;

稻叶正 ;

上村哲也 .

日本专利 :CN117441226A ,2024-01-23

[7]

半导体基板清洗用组合物和使用其的半导体基板的制造方法 [P].

尾家俊行 .

日本专利 :CN119585847A ,2025-03-07

[8]

组合物、半导体元件的制造方法、半导体基板的清洗方法 [P].

稻叶正 ;

室祐继 ;

上村哲也 ;

大内直子 .

日本专利 :CN118922917A ,2024-11-08

[9]

清洗组合物、半导体装置的制造方法及清洗方法 [P].

稻叶正 ;

高桥和敬 ;

高桥智威 ;

水谷笃史 .

中国专利 :CN102242025B ,2011-11-16

[10]

清洗组合物、半导体装置的制造方法及清洗方法 [P].

稻叶正 ;

高桥和敬 ;

高桥智威 ;

水谷笃史 .

中国专利 :CN104152297A ,2014-11-19

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