用于去除表面沉积物的远距腔室法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580009552.8

申请日：

2005-03-24

公开(公告)号：

CN101044262A

公开(公告)日：

2007-09-26

发明(设计)人：

H·H·萨温 B·白

申请人：

申请人地址：

美国马萨诸塞州

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

H01L2100

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

林森

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-03-24	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-09-26	公开	公开
2007-11-21	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用于去除表面沉积物的远距腔室法 [P].

H·H·萨温 ;

B·白 .

中国专利 :CN101163816A ,2008-04-16

[2]

用于去除表面沉积物的远距腔室法 [P].

H·H·萨温 ;

B·白 .

中国专利 :CN101052742A ,2007-10-10

[3]

用于去除布置在腔室中表面上的金属沉积物的方法 [P].

法比安·皮亚拉 ;

朱利安·维蒂耶洛 .

中国专利 :CN108884560A ,2018-11-23

[4]

沉积物去除装置和方法，沉积物去除系统 [P].

胡立舜 ;

付旭 .

中国专利 :CN108057693A ,2018-05-22

[5]

去除沉积物的方法 [P].

马尔塞洛·里瓦 ;

斯特凡·姆罗斯 .

中国专利 :CN102597309A ,2012-07-18

[6]

可减少反应腔室沉积物的方法 [P].

卓震宇 ;

孙炳云 ;

吕明政 .

中国专利 :CN1787182A ,2006-06-14

[7]

一种去除Shield表面沉积物的清洗方法 [P].

郭志瑾 .

中国专利 :CN121161304A ,2025-12-19

[8]

用于去除结垢沉积物的组合物 [P].

I·D·史密斯 .

中国专利 :CN104302728B ,2015-01-21

[9]

用于去除和预防沉积物的乳液 [P].

P·比尔甘斯 ;

M·布勒歇尔 ;

C·坎托-奎韦斯特 .

中国专利 :CN103080420A ,2013-05-01

[10]

半导体设备腔室、用于腔室的系统和沉积物状态控制方法 [P].

焦明洁 ;

郝志杰 ;

高峰 ;

白洪元 .

中国专利 :CN111463143A ,2020-07-28

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