一种用于加工半导体样品的系统

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专利类型
实用新型
申请号
CN201190000532.5
申请日
2011-03-30
公开(公告)号
CN203055871U
公开(公告)日
2013-07-10
发明(设计)人
兰·安德鲁·马克思韦尔
申请人
申请人地址
澳大利亚新南威尔士
IPC主分类号
H01L2166
IPC分类号
G01N2164 H01L2167
代理机构
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
张英;刘书芝
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体样品加工系统 [P]. 
柳田一隆 ;
近江和明 ;
坂口清文 .
中国专利 :CN1127753C ,2000-06-28
[2]
一种半导体激光加工系统 [P]. 
汪楠 ;
徐昕 ;
赵亚平 ;
陈晴 ;
林学春 ;
杨盈莹 ;
于海娟 .
中国专利 :CN105904085A ,2016-08-31
[3]
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朱红飞 .
中国专利 :CN213583718U ,2021-06-29
[4]
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薛建雄 ;
翟瑞 ;
林小波 ;
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[5]
一种用于半导体晶圆的激光加工装置 [P]. 
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[6]
半导体加工系统 [P]. 
范春林 ;
萧俊龙 ;
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半导体加工系统 [P]. 
邱义君 ;
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吕至诚 ;
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[8]
一种用于激光加工的高功率半导体激光光源系统 [P]. 
刘兴胜 ;
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王敏 ;
郑艳芳 ;
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[9]
一种用于激光加工的高功率半导体激光光源系统 [P]. 
刘兴胜 ;
王敏 ;
郑艳芳 ;
王晓飚 .
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[10]
一种用于激光加工的高功率半导体激光光源系统 [P]. 
刘兴胜 ;
王晓飚 ;
王敏 ;
郑艳芳 ;
栾凯 ;
高毅 .
中国专利 :CN202503192U ,2012-10-24