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曝光机用平台装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201120326333.5
申请日：
2011-09-01
公开(公告)号：
CN202210214U
公开(公告)日：
2012-05-02
发明(设计)人：
张永裕
陈立扬
申请人：
申请人地址：
510850 广东省广州市花都区狮岭镇利和路6号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人：
任琳
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-09-17 | 专利权的终止 | 专利权有效期届满 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20110901 授权公告日:20120502 |
| 2012-05-02 | 授权 | 授权 |