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一种用于硅基片表面处理的喷丸材料和硅基片的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210290715.6
申请日
:
2012-08-15
公开(公告)号
:
CN102952521A
公开(公告)日
:
2013-03-06
发明(设计)人
:
万丹丹
王菲
史玛利亚
申请人
:
申请人地址
:
200245 上海市闵行区文井路55号
IPC主分类号
:
C09K314
IPC分类号
:
H01L3118
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
骆苏华
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2013-03-06
公开
公开
2015-04-08
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101713560445 IPC(主分类):C09K 3/14 专利申请号:2012102907156 申请公布日:20130306
共 50 条
[1]
硅基片的制备方法和硅基片
[P].
曲凯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
北海惠科半导体科技有限公司
北海惠科半导体科技有限公司
曲凯
;
鲁艳春
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0
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0
机构:
北海惠科半导体科技有限公司
北海惠科半导体科技有限公司
鲁艳春
;
梁洪春
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
北海惠科半导体科技有限公司
北海惠科半导体科技有限公司
梁洪春
.
中国专利
:CN119833395A
,2025-04-15
[2]
用于处理含硅基片的混合物
[P].
A·库特尼尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
A·库特尼尔
.
中国专利
:CN1158596A
,1997-09-03
[3]
一种博世工艺刻蚀硅基片的方法
[P].
王洪青
论文数:
0
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0
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0
王洪青
;
黄智林
论文数:
0
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0
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0
黄智林
.
中国专利
:CN106935494A
,2017-07-07
[4]
一种硅基片或陶瓷基片的柔性机械光刻剥离工艺方法
[P].
赵文杰
论文数:
0
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0
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赵文杰
;
胡军
论文数:
0
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0
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胡军
;
周真
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周真
;
施云波
论文数:
0
引用数:
0
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施云波
;
罗毅
论文数:
0
引用数:
0
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0
罗毅
.
中国专利
:CN103663361A
,2014-03-26
[5]
硅基片中形成扩散区的方法
[P].
D·D·科尔鲍
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0
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D·D·科尔鲍
;
D·L·哈拉梅
论文数:
0
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0
D·L·哈拉梅
.
中国专利
:CN1153263C
,2001-03-28
[6]
一种硅基片自动清洗处理机
[P].
陈朝
论文数:
0
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0
陈朝
.
中国专利
:CN208230398U
,2018-12-14
[7]
硅基片厚金属刻蚀的前处理工艺
[P].
李俊
论文数:
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李俊
;
陈杰
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陈杰
;
黄蕴
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黄蕴
;
寇春梅
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寇春梅
.
中国专利
:CN103681242B
,2014-03-26
[8]
一种硅基片上料机
[P].
陆宏艺
论文数:
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机构:
深圳市凯达扬自动化有限公司
深圳市凯达扬自动化有限公司
陆宏艺
.
中国专利
:CN222453471U
,2025-02-11
[9]
硅基片上有序纳米碳管阵列的制备方法
[P].
巴龙
论文数:
0
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0
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巴龙
;
雷威
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0
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雷威
;
王保平
论文数:
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0
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王保平
.
中国专利
:CN1323051A
,2001-11-21
[10]
一种在硅基片上制备钙钛矿薄膜的方法
[P].
请求不公布姓名
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
深圳黑晶光电技术有限公司
深圳黑晶光电技术有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
深圳黑晶光电技术有限公司
深圳黑晶光电技术有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
深圳黑晶光电技术有限公司
深圳黑晶光电技术有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
深圳黑晶光电技术有限公司
深圳黑晶光电技术有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
深圳黑晶光电技术有限公司
深圳黑晶光电技术有限公司
请求不公布姓名
;
请求不公布姓名
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机构:
深圳黑晶光电技术有限公司
深圳黑晶光电技术有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN115332451B
,2024-12-10
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