一种用于硅基片表面处理的喷丸材料和硅基片的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210290715.6
申请日
2012-08-15
公开(公告)号
CN102952521A
公开(公告)日
2013-03-06
发明(设计)人
万丹丹 王菲 史玛利亚
申请人
申请人地址
200245 上海市闵行区文井路55号
IPC主分类号
C09K314
IPC分类号
H01L3118
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
硅基片的制备方法和硅基片 [P]. 
曲凯 ;
鲁艳春 ;
梁洪春 .
中国专利 :CN119833395A ,2025-04-15
[2]
用于处理含硅基片的混合物 [P]. 
A·库特尼尔 .
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[3]
一种博世工艺刻蚀硅基片的方法 [P]. 
王洪青 ;
黄智林 .
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[4]
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赵文杰 ;
胡军 ;
周真 ;
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[5]
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D·D·科尔鲍 ;
D·L·哈拉梅 .
中国专利 :CN1153263C ,2001-03-28
[6]
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[7]
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李俊 ;
陈杰 ;
黄蕴 ;
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[8]
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[9]
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巴龙 ;
雷威 ;
王保平 .
中国专利 :CN1323051A ,2001-11-21
[10]
一种在硅基片上制备钙钛矿薄膜的方法 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN115332451B ,2024-12-10