处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811250812.6

申请日：

2018-10-25

公开(公告)号：

CN109712910A

公开(公告)日：

2019-05-03

发明(设计)人：

岩畑翔太樋口鲇美藤田惠理藤谷佳礼真野雅子竹松佑介奥谷洋介

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

张敬强;金成哲

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-03	公开	公开
2019-05-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20181025

共 50 条

[1]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

徳利宪太郎 ;

田中洋一 .

中国专利 :CN111788660A ,2020-10-16

[2]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

徳利宪太郎 ;

田中洋一 .

日本专利 :CN111788660B ,2024-09-20

[3]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

太田乔 .

中国专利 :CN110114858A ,2019-08-09

[4]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

井上正史 .

中国专利 :CN108630571A ,2018-10-09

[5]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

谷泽成规 ;

新庄淳一 ;

山本哲也 .

中国专利 :CN108511366A ,2018-09-07

[6]

处理液供给装置、基板处理装置及处理液供给方法 [P].

滩和成 .

日本专利 :CN119890075A ,2025-04-25

[7]

处理液供给方法以及基板处理装置 [P].

佐川荣寿 ;

西村淳树 ;

山本聪 .

日本专利 :CN118679552A ,2024-09-20

[8]

处理液供给装置、处理液供给方法以及存储介质 [P].

矢野英嗣 .

中国专利 :CN115513089A ,2022-12-23

[9]

处理液供给装置和处理液供给方法 [P].

高栁康治 ;

吉原孝介 ;

寺下裕一 ;

古庄智伸 ;

佐佐卓志 .

中国专利 :CN104511408B ,2015-04-15

[10]

处理液供给方法和处理液供给装置 [P].

志手英男 ;

木村一彦 ;

汤本知行 .

中国专利 :CN106024579A ,2016-10-12

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