处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810095001.7

申请日：

2018-01-31

公开(公告)号：

CN108511366A

公开(公告)日：

2018-09-07

发明(设计)人：

谷泽成规新庄淳一山本哲也

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

向勇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-07	公开	公开
2018-10-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20180131
2022-03-15	授权	授权

共 50 条

[1]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

徳利宪太郎 ;

田中洋一 .

中国专利 :CN111788660A ,2020-10-16

[2]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

太田乔 .

中国专利 :CN110114858A ,2019-08-09

[3]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

岩畑翔太 ;

樋口鲇美 ;

藤田惠理 ;

藤谷佳礼 ;

真野雅子 ;

竹松佑介 ;

奥谷洋介 .

中国专利 :CN109712910A ,2019-05-03

[4]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

徳利宪太郎 ;

田中洋一 .

日本专利 :CN111788660B ,2024-09-20

[5]

处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法 [P].

井上正史 .

中国专利 :CN108630571A ,2018-10-09

[6]

处理液供给装置、基板处理装置及处理液供给方法 [P].

滩和成 .

日本专利 :CN119890075A ,2025-04-25

[7]

处理液供给方法以及基板处理装置 [P].

佐川荣寿 ;

西村淳树 ;

山本聪 .

日本专利 :CN118679552A ,2024-09-20

[8]

处理液供给装置及处理液供给方法 [P].

相原友明 ;

永田博史 ;

田原真二 .

日本专利 :CN121034993A ,2025-11-28

[9]

处理液供给装置和处理液供给方法 [P].

大久保敬弘 ;

榎木田卓 ;

古庄智伸 .

中国专利 :CN110416119A ,2019-11-05

[10]

处理液供给装置和处理液供给方法 [P].

桥本和也 ;

赤田光 .

日本专利 :CN119028869A ,2024-11-26

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