硅片清洗设备、限位结构

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201922019867.2

申请日：

2019-11-21

公开(公告)号：

CN211182164U

公开(公告)日：

2020-08-04

发明(设计)人：

左国军余兴梅万红朝

申请人：

申请人地址：

213133 江苏省常州市新北区机电工业园宝塔山路9号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2168 H01L3118

代理机构：

北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343

代理人：

汪海屏;刘潇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-04	授权	授权

共 50 条

[1]

硅片清洗设备、限位结构 [P].

左国军 ;

余兴梅 ;

万红朝 .

中国专利 :CN110767584A ,2020-02-07

[2]

硅片清洗装置及硅片清洗设备 [P].

朱伟 ;

谢宇宽 ;

季建 .

中国专利 :CN221657290U ,2024-09-06

[3]

硅片清洗设备 [P].

刘成中 .

中国专利 :CN210200670U ,2020-03-27

[4]

硅片清洗设备 [P].

左国军 ;

成旭 ;

李雄朋 ;

任金枝 .

中国专利 :CN210628335U ,2020-05-26

[5]

硅片清洗设备 [P].

陈海燕 .

中国专利 :CN209119058U ,2019-07-16

[6]

硅片清洗设备 [P].

左国军 ;

成旭 ;

李雄朋 ;

任金枝 .

中国专利 :CN210628258U ,2020-05-26

[7]

电池硅片清洗设备 [P].

陈海燕 .

中国专利 :CN210443532U ,2020-05-01

[8]

电池硅片清洗设备 [P].

吴超 .

中国专利 :CN218424270U ,2023-02-03

[9]

一种硅片清洗设备槽体结构 [P].

李献朋 ;

郎芳 ;

潘明翠 ;

尹丽丽 ;

郭晓杰 ;

薛敬伟 ;

于航 ;

王子谦 ;

王红芳 ;

马红娜 ;

史金超 ;

于波 .

中国专利 :CN222106609U ,2024-12-03

[10]

硅片清洗设备及硅片清洗方法 [P].

袁松柏 .

中国专利 :CN117878026A ,2024-04-12

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