一种半导体晶圆刻蚀装置

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专利类型
实用新型
申请号
CN202122018003.6
申请日
2021-08-25
公开(公告)号
CN215896323U
公开(公告)日
2022-02-22
发明(设计)人
雷胜
申请人
申请人地址
214000 江苏省无锡市锡山区东亭街道春合南苑209号-13
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
代理机构
东莞市卓易专利代理事务所(普通合伙) 44777
代理人
魏昕
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种半导体晶圆刻蚀装置 [P]. 
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薛鹏 .
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一种半导体晶圆传送装置 [P]. 
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薛敬伟 ;
王锡胜 ;
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刘庆贵 .
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[3]
一种半导体晶圆减薄装置 [P]. 
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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