形成光掩模的玻璃基板及制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010582088.4

申请日：

2010-12-10

公开(公告)号：

CN102096311A

公开(公告)日：

2011-06-15

发明(设计)人：

原田大实森川护竹内正树柴野由纪夫

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F114

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

金晓

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-06-15	公开	公开
2012-11-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101351339977 IPC(主分类):G03F 1/14 专利申请号:2010105820884 申请日:20101210
2014-10-29	授权	授权

共 50 条

[1]

玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模 [P].

木下一树 ;

二岛悟 ;

青木阳祐 ;

板仓敬二郎 .

中国专利 :CN104620176B ,2015-05-13

[2]

玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模 [P].

木下一树 ;

二岛悟 ;

青木阳祐 ;

板仓敬二郎 .

中国专利 :CN109298594B ,2019-02-01

[3]

阵列基板制造用的光掩模、阵列基板及其制造方法 [P].

川野英郎 ;

砂山英树 .

中国专利 :CN101206393B ,2008-06-25

[4]

玻璃基板的制造方法及玻璃基板 [P].

滨上耕 ;

小山昭浩 ;

冈本美里 .

中国专利 :CN105217942A ,2016-01-06

[5]

玻璃基板及玻璃基板的制造方法 [P].

宫本干大 .

中国专利 :CN102947238A ,2013-02-27

[6]

玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造装置 [P].

月向仁志 .

中国专利 :CN107735369B ,2018-02-23

[7]

玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造装置 [P].

君嶋哲郎 ;

村上次伸 .

中国专利 :CN107445450B ,2017-12-08

[8]

玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造装置 [P].

前田伸广 ;

苅谷浩幸 .

中国专利 :CN104010981B ,2014-08-27

[9]

玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造装置 [P].

铃木谅 .

中国专利 :CN105377773B ,2016-03-02

[10]

玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造装置 [P].

前田伸广 .

中国专利 :CN103842304A ,2014-06-04

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