玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380047359.8

申请日：

2013-09-19

公开(公告)号：

CN104620176B

公开(公告)日：

2015-05-13

发明(设计)人：

木下一树二岛悟青木阳祐板仓敬二郎

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G03F168

IPC分类号：

B09B500 C03C1500 C03C1722 G03F160 G03F172

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

葛凡

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-26	授权	授权
2015-05-13	公开	公开
2015-06-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101612422521 IPC(主分类):G03F 1/68 专利申请号:2013800473598 申请日:20130919

共 50 条

[1]

玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模 [P].

木下一树 ;

二岛悟 ;

青木阳祐 ;

板仓敬二郎 .

中国专利 :CN109298594B ,2019-02-01

[2]

形成光掩模的玻璃基板及制造方法 [P].

原田大实 ;

森川护 ;

竹内正树 ;

柴野由纪夫 .

中国专利 :CN102096311A ,2011-06-15

[3]

掩模版的再生处理方法及掩模版的再生处理设备 [P].

季明华 ;

蔡晓峰 ;

黄早红 .

中国专利 :CN117724291A ,2024-03-19

[4]

蒸镀掩模、带玻璃基板的蒸镀掩模及带玻璃基板的掩模片材 [P].

佐藤俊介 ;

寺田玲尔 ;

三上菜穗子 .

中国专利 :CN112981319B ,2021-06-18

[5]

玻璃基板、使用该玻璃基板的检测方法以及矩阵掩模 [P].

潘星佑 .

中国专利 :CN101699332A ,2010-04-28

[6]

用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法 [P].

植松照博 .

中国专利 :CN104909581A ,2015-09-16

[7]

用于形成蚀刻掩模的玻璃基板的前处理方法 [P].

植松照博 ;

田上胜弥 .

中国专利 :CN105676601A ,2016-06-15

[8]

光掩模用石英玻璃基板磁流变抛光后的清洗方法 [P].

李明俊 ;

孙世轩 ;

单佩 ;

刘书常 ;

芦可可 ;

关蕾 ;

黄芸 .

中国专利 :CN119259542A ,2025-01-07

[9]

一种大尺寸光掩模石英玻璃基板抛光装置 [P].

郇朝阳 ;

肖华 ;

钟媛 ;

王俊 ;

陆国森 ;

刘利 ;

黄加 ;

陈一彪 ;

张国保 .

中国专利 :CN223572739U ,2025-11-21

[10]

一种大尺寸光掩模石英玻璃基板抛光装置 [P].

郇朝阳 ;

肖华 ;

钟媛 ;

王俊 ;

陆国森 ;

刘利 ;

黄加 ;

陈一彪 ;

张国保 .

中国专利 :CN119369208A ,2025-01-28

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