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辐射源

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201480074178.9
申请日：
2014-12-19
公开(公告)号：
CN105940349A
公开(公告)日：
2016-09-14
发明(设计)人：
M·F·A·厄尔林斯 N·A·J·M·克里曼斯 A·J·J·范迪杰西尔多克 R·M·霍夫斯特拉 O·F·J·努德曼 T·N·费姆 J·B·P·范斯库特 J-C·王 K·W·张
申请人：
申请人地址：
荷兰维德霍温
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
F21V709 G02B2709 H05G200
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
王茂华;郑振
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2016-09-14 公开 公开
2017-03-01 实质审查的生效 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101705825117 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014800741789 申请日:20141219
2020-01-17 授权 授权
共 50 条
[1]
辐射源 [P]. 
N·库马尔 ;
S·R·胡伊斯曼 .
:CN112925176B ,2024-06-25
[2]
辐射源 [P]. 
B·詹森 ;
J·胡格坎普 .
中国专利 :CN103843463A ,2014-06-04
[3]
辐射源 [P]. 
倪永锋 .
中国专利 :CN111164516A ,2020-05-15
[4]
辐射源 [P]. 
N·库马尔 ;
S·R·胡伊斯曼 .
中国专利 :CN109313404B ,2019-02-05
[5]
辐射源 [P]. 
A·亚库宁 ;
V·伊万诺夫 ;
J·范斯库特 ;
V·克里夫特苏恩 ;
G·斯温克尔斯 ;
V·梅德韦杰夫 .
中国专利 :CN103782662B ,2014-05-07
[6]
辐射源 [P]. 
N·库马尔 ;
S·R·胡伊斯曼 .
中国专利 :CN112925176A ,2021-06-08
[7]
EUV辐射源 [P]. 
拉尔斯·彼得·本克 .
中国专利 :CN115552335A ,2022-12-30
[8]
辐射源和光刻设备 [P]. 
A·亚库宁 ;
V·班尼恩 ;
V·伊万诺夫 ;
E·鲁普斯特拉 ;
V·克里夫特苏恩 ;
G·斯温克尔斯 ;
D·兰贝特斯基 .
中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21
[9]
辐射源和光刻设备 [P]. 
O·诺德曼 ;
M·奥林斯 .
中国专利 :CN105474101B ,2016-04-06
[10]
辐射源和光刻设备 [P]. 
A·亚库宁 ;
V·班尼恩 ;
V·伊万诺夫 ;
E·鲁普斯特拉 ;
V·克里夫特苏恩 ;
G·斯温克尔斯 ;
D·兰贝特斯基 .
中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03
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