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沟槽型肖特基二极管的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201310188099.8
申请日
:
2013-05-20
公开(公告)号
:
CN104183483A
公开(公告)日
:
2014-12-03
发明(设计)人
:
刘远良
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
IPC主分类号
:
H01L21329
IPC分类号
:
H01L2128
代理机构
:
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
:
高月红
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-12-03
公开
公开
2017-06-06
授权
授权
2014-12-31
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101593525420 IPC(主分类):H01L 21/329 专利申请号:2013101880998 申请日:20130520
共 50 条
[1]
沟槽型肖特基二极管的制备方法
[P].
赵圣哲
论文数:
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0
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0
赵圣哲
;
李理
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李理
;
赵文魁
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0
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赵文魁
.
中国专利
:CN107346733A
,2017-11-14
[2]
沟槽型肖特基二极管的结构及制作方法
[P].
邵向荣
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邵向荣
;
韩健
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韩健
;
李宏伟
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李宏伟
.
中国专利
:CN104051260A
,2014-09-17
[3]
沟槽肖特基二极管
[P].
余强
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余强
;
焦伟
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焦伟
;
桑雨果
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桑雨果
;
姚鑫
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姚鑫
;
张小辛
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张小辛
.
中国专利
:CN206878007U
,2018-01-12
[4]
肖特基二极管
[P].
王飞
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王飞
.
中国专利
:CN103035751A
,2013-04-10
[5]
肖特基二极管
[P].
韩建军
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韩建军
.
中国专利
:CN201126822Y
,2008-10-01
[6]
一种沟槽肖特基二极管制备方法及沟槽肖特基二极管
[P].
乐双申
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机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
乐双申
;
何增谊
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机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
何增谊
;
陈兆萍
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机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
陈兆萍
.
中国专利
:CN117976537A
,2024-05-03
[7]
沟槽式肖特基二极管及沟槽式肖特基二极管的制备方法
[P].
王国峰
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王国峰
;
李京兵
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李京兵
;
石晓宇
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石晓宇
.
中国专利
:CN114639719A
,2022-06-17
[8]
一种新型沟槽肖特基二极管制备方法及沟槽肖特基二极管
[P].
乐双申
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机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
乐双申
;
何增谊
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机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
何增谊
;
陈兆萍
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机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
陈兆萍
.
中国专利
:CN117976536A
,2024-05-03
[9]
沟槽MOS型肖特基二极管
[P].
佐佐木公平
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0
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0
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0
佐佐木公平
;
东胁正高
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东胁正高
.
中国专利
:CN110352498A
,2019-10-18
[10]
沟槽MOS型肖特基二极管
[P].
佐佐木公平
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佐佐木公平
;
东胁正高
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东胁正高
.
中国专利
:CN109075214B
,2018-12-21
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