一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910937674.7

申请日：

2019-09-29

公开(公告)号：

CN112575349A

公开(公告)日：

2021-03-30

发明(设计)人：

杨晓东赵志彬陶绍虎王富强张钦菘

申请人：

申请人地址：

110001 辽宁省沈阳市和平区和平北大街184号

IPC主分类号：

C25C320

IPC分类号：

C25C314

代理机构：

沈阳圣群专利事务所(普通合伙) 21221

代理人：

王钢

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-30	公开	公开
2021-04-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C25C 3/20 申请日:20190929

共 50 条

[1]

铝电解槽氧化铝浓度的控制方法 [P].

马绍良 ;

曹新乐 ;

林玉胜 ;

魏强 ;

徐进 .

中国专利 :CN101643920B ,2010-02-10

[2]

一种铝电解槽氧化铝下料系统 [P].

张红亮 ;

杨帅 ;

李劼 ;

邹忠 ;

丁凤其 ;

赖延清 .

中国专利 :CN102719854B ,2012-10-10

[3]

一种铝电解槽氧化铝浓度定值控制的方法 [P].

李旺兴 ;

赵庆云 ;

邱仕麟 ;

张保伟 ;

唐新平 ;

侯光辉 .

中国专利 :CN102234818A ,2011-11-09

[4]

一种铝电解槽低氧化铝浓度控制方法 [P].

张平 ;

柳长润 ;

杨国文 ;

刘锋 ;

曹继明 ;

毛永庆 ;

张宝业 ;

肖述兵 .

中国专利 :CN101082135A ,2007-12-05

[5]

一种铝电解槽氧化铝下料装置 [P].

张红亮 ;

杨帅 ;

李劼 ;

邹忠 ;

丁凤其 ;

赖延清 .

中国专利 :CN202626312U ,2012-12-26

[6]

一种基于铝电解槽的氧化铝浓度控制方法 [P].

尹刚 ;

尹艺臻 ;

李卓蔓 ;

沈重衡 ;

尹俊皓 ;

尹冬 ;

尹松 ;

白家扬 ;

尹平 ;

尹在之 ;

张艳怡 .

中国专利 :CN105951127B ,2016-09-21

[7]

电解槽氧化铝下料控制方法 [P].

李南谊 .

中国专利 :CN104775135A ,2015-07-15

[8]

一种铝电解槽氧化铝下料装置 [P].

卫莉婷 ;

王杰 ;

鱼银虎 ;

焦姣 ;

弓巧娟 .

中国专利 :CN208501120U ,2019-02-15

[9]

一种实现铝电解槽氧化铝浓度稳定控制的方法 [P].

李旺兴 ;

赵庆云 ;

邱仕麟 ;

张延利 .

中国专利 :CN102808198A ,2012-12-05

[10]

一种铝电解槽的氧化铝下料方法 [P].

黄海波 ;

罗丽芬 ;

王俊青 ;

柴登鹏 ;

李强 ;

刘秀 .

中国专利 :CN106319573A ,2017-01-11

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