铝电解槽氧化铝浓度的控制方法

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专利类型
发明
申请号
CN200910306846.7
申请日
2009-09-10
公开(公告)号
CN101643920B
公开(公告)日
2010-02-10
发明(设计)人
马绍良 曹新乐 林玉胜 魏强 徐进
申请人
申请人地址
100082 北京市海淀区西直门北大街62号
IPC主分类号
C25C330
IPC分类号
代理机构
北京市德权律师事务所 11302
代理人
王建国
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法 [P]. 
杨晓东 ;
赵志彬 ;
陶绍虎 ;
王富强 ;
张钦菘 .
中国专利 :CN112575349A ,2021-03-30
[2]
一种铝电解槽氧化铝浓度定值控制的方法 [P]. 
李旺兴 ;
赵庆云 ;
邱仕麟 ;
张保伟 ;
唐新平 ;
侯光辉 .
中国专利 :CN102234818A ,2011-11-09
[3]
一种铝电解槽低氧化铝浓度控制方法 [P]. 
张平 ;
柳长润 ;
杨国文 ;
刘锋 ;
曹继明 ;
毛永庆 ;
张宝业 ;
肖述兵 .
中国专利 :CN101082135A ,2007-12-05
[4]
一种基于铝电解槽的氧化铝浓度控制方法 [P]. 
尹刚 ;
尹艺臻 ;
李卓蔓 ;
沈重衡 ;
尹俊皓 ;
尹冬 ;
尹松 ;
白家扬 ;
尹平 ;
尹在之 ;
张艳怡 .
中国专利 :CN105951127B ,2016-09-21
[5]
氧化铝电解槽装置 [P]. 
陈才荣 .
中国专利 :CN103225089A ,2013-07-31
[6]
氧化铝电解槽装置 [P]. 
陈才荣 .
中国专利 :CN202465897U ,2012-10-03
[7]
一种实现铝电解槽氧化铝浓度稳定控制的方法 [P]. 
李旺兴 ;
赵庆云 ;
邱仕麟 ;
张延利 .
中国专利 :CN102808198A ,2012-12-05
[8]
一种铝电解槽氧化铝下料系统 [P]. 
张红亮 ;
杨帅 ;
李劼 ;
邹忠 ;
丁凤其 ;
赖延清 .
中国专利 :CN102719854B ,2012-10-10
[9]
一种铝电解槽内氧化铝浓度控制装置 [P]. 
何文 ;
唐卫权 ;
严昌令 ;
唐勇 .
中国专利 :CN222160393U ,2024-12-13
[10]
一种均衡铝电解槽氧化铝浓度的装置及方法 [P]. 
陈喜平 ;
李旺兴 ;
余峰涛 ;
邱仕麟 .
中国专利 :CN103014773A ,2013-04-03