半导体结构的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201210492711.6
申请日
2012-11-27
公开(公告)号
CN103839878B
公开(公告)日
2014-06-04
发明(设计)人
洪中山
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
H01L2102
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构的形成方法 [P]. 
张城龙 ;
张海洋 .
中国专利 :CN106033742A ,2016-10-19
[2]
半导体结构的形成方法 [P]. 
禹国宾 .
中国专利 :CN105762107A ,2016-07-13
[3]
半导体结构的形成方法 [P]. 
王新鹏 ;
潘晶 ;
王琪 ;
宁先捷 .
中国专利 :CN104425366A ,2015-03-18
[4]
半导体结构的形成方法 [P]. 
黄秋平 ;
卞祖洋 .
中国专利 :CN105374675A ,2016-03-02
[5]
半导体结构的形成方法 [P]. 
胡华勇 .
中国专利 :CN103531444B ,2014-01-22
[6]
半导体结构的形成方法 [P]. 
黄秋平 ;
卞祖洋 .
中国专利 :CN103606534B ,2014-02-26
[7]
半导体结构的形成方法 [P]. 
何其暘 .
中国专利 :CN104425371B ,2015-03-18
[8]
半导体结构的形成方法 [P]. 
三重野文健 ;
周梅生 .
中国专利 :CN103579074A ,2014-02-12
[9]
半导体结构的形成方法 [P]. 
焦明洁 ;
刘佳磊 .
中国专利 :CN103594361A ,2014-02-19
[10]
半导体结构的形成方法 [P]. 
张城龙 ;
张海洋 .
中国专利 :CN106158725B ,2016-11-23