半导体结构的形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410802055.4
申请日
2014-12-18
公开(公告)号
CN105762107A
公开(公告)日
2016-07-13
发明(设计)人
禹国宾
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
应战;骆苏华
法律状态
公开
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 ;
魏兰英 .
中国专利 :CN113053816B ,2021-06-29
[2]
半导体结构的形成方法 [P]. 
张城龙 ;
张海洋 .
中国专利 :CN106033742A ,2016-10-19
[3]
半导体结构的形成方法 [P]. 
洪中山 .
中国专利 :CN103839878B ,2014-06-04
[4]
半导体结构的形成方法 [P]. 
王新鹏 ;
潘晶 ;
王琪 ;
宁先捷 .
中国专利 :CN104425366A ,2015-03-18
[5]
半导体结构的形成方法 [P]. 
武咏琴 ;
卜伟海 .
中国专利 :CN114446790B ,2025-09-26
[6]
半导体结构的形成方法 [P]. 
邓浩 .
中国专利 :CN106856167B ,2017-06-16
[7]
半导体结构的形成方法 [P]. 
黄秋平 ;
卞祖洋 .
中国专利 :CN105374675A ,2016-03-02
[8]
半导体结构的形成方法 [P]. 
胡华勇 .
中国专利 :CN103531444B ,2014-01-22
[9]
半导体结构的形成方法 [P]. 
黄秋平 ;
卞祖洋 .
中国专利 :CN103606534B ,2014-02-26
[10]
半导体结构的形成方法 [P]. 
何其暘 .
中国专利 :CN104425371B ,2015-03-18