形成多晶硅层的方法、薄膜晶体管、显示装置及制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201010506428.5
申请日
2010-10-12
公开(公告)号
CN102064089B
公开(公告)日
2011-05-18
发明(设计)人
李东炫 李基龙 徐晋旭 梁泰勋 马克西姆·莉萨契克 朴炳建 李吉远 郑在琓
申请人
申请人地址
韩国京畿道龙仁市
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
H01L29786 H01L21336 H01L2732
代理机构
北京铭硕知识产权代理有限公司 11286
代理人
韩明星;金光军
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
制造多晶硅层的方法、薄膜晶体管、显示装置及制造方法 [P]. 
李东炫 ;
李基龙 ;
徐晋旭 ;
梁泰勋 ;
郑胤谟 ;
朴炳建 ;
李吉远 ;
朴钟力 ;
崔宝京 ;
苏炳洙 .
中国专利 :CN102082077B ,2011-06-01
[2]
形成多晶硅膜的方法、薄膜晶体管和显示装置 [P]. 
孙榕德 ;
李基龙 ;
徐晋旭 ;
郑珉在 ;
李卓泳 .
中国专利 :CN103681349A ,2014-03-26
[3]
多晶硅层以及薄膜晶体管的制造方法 [P]. 
杨芸佩 ;
邓德华 ;
施智仁 ;
吕佳谦 .
中国专利 :CN101005016A ,2007-07-25
[4]
形成多晶硅层及多晶硅薄膜晶体管的方法 [P]. 
翁健森 ;
张志清 .
中国专利 :CN1333447C ,2005-03-09
[5]
形成多晶硅层的方法以及制造多晶硅薄膜晶体管的方法 [P]. 
彭佳添 ;
廖龙盛 ;
曹义昌 .
中国专利 :CN1314090C ,2004-06-30
[6]
薄膜晶体管及低温多晶硅薄膜晶体管之多晶硅层的制造方法 [P]. 
何明彻 ;
杨芸佩 ;
刘博智 ;
吕佳谦 .
中国专利 :CN1929099A ,2007-03-14
[7]
形成多晶硅层以及制作多晶硅薄膜晶体管的方法 [P]. 
金彬 ;
金海烈 ;
裵钟旭 .
中国专利 :CN1319123C ,2004-05-26
[8]
形成多晶硅层的方法、薄膜晶体管和有机发光装置 [P]. 
朴炳建 ;
朴钟力 ;
郑胤谟 ;
李卓泳 ;
徐晋旭 ;
李基龙 ;
郑珉在 ;
孙榕德 ;
苏炳洙 ;
朴承圭 ;
李东炫 ;
李吉远 ;
郑在琓 .
中国专利 :CN102386069A ,2012-03-21
[9]
多晶硅薄膜晶体管及其制造方法、显示装置 [P]. 
敏健 ;
李小龙 ;
高涛 ;
李良坚 ;
许正印 .
中国专利 :CN107636839A ,2018-01-26
[10]
薄膜晶体管的多晶硅制造方法 [P]. 
范庆麟 .
中国专利 :CN100342493C ,2005-01-19