表面被覆荧光体粒子、表面被覆荧光体粒子的制造方法以及发光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080027709.4

申请日：

2020-03-31

公开(公告)号：

CN113785030A

公开(公告)日：

2021-12-10

发明(设计)人：

赤羽雅斗江本秀幸

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C09K1108

IPC分类号：

C09K1164 H01L3350

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李书慧;朝鲁门

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 11/08 申请日:20200331
2021-12-10	公开	公开

共 50 条

[1]

表面被覆荧光体粒子、表面被覆荧光体粒子的制造方法以及发光装置 [P].

赤羽雅斗 ;

江本秀幸 .

日本专利 :CN113785030B ,2024-02-23

[2]

表面被覆荧光体粒子、表面被覆荧光体粒子的制造方法及发光装置 [P].

赤羽雅斗 ;

江本秀幸 .

中国专利 :CN113677775A ,2021-11-19

[3]

表面被覆荧光体粒子和发光装置 [P].

赤羽雅斗 ;

江本秀幸 .

中国专利 :CN113891926A ,2022-01-04

[4]

含荧光体粒子以及使用该含荧光体粒子的发光装置、含荧光体薄片 [P].

两轮达也 ;

中田加奈子 ;

福永浩史 ;

和泉真 .

中国专利 :CN109021963A ,2018-12-18

[5]

荧光体粒子、复合体、发光装置和荧光体粒子的制造方法 [P].

野见山智宏 ;

武田雄介 ;

高村麻里奈 ;

奥园达也 ;

宫崎胜 ;

渡边真太郎 .

中国专利 :CN113710771B ,2021-11-26

[6]

荧光体粒子、复合体、发光装置和荧光体粒子的制造方法 [P].

野见山智宏 ;

武田雄介 ;

高村麻里奈 ;

奥园达也 ;

宫崎胜 ;

渡边真太郎 .

中国专利 :CN113692437B ,2021-11-23

[7]

表面处理荧光体以及表面处理荧光体的制造方法 [P].

孙仁德 ;

中谷康弘 ;

大村贵宏 ;

谷川满 ;

渡边贵志 .

中国专利 :CN102822313A ,2012-12-12

[8]

荧光体的表面处理方法、荧光体、发光装置以及照明装置 [P].

竹田豪 ;

野野垣良三 .

中国专利 :CN104350127B ,2015-02-11

[9]

荧光体、荧光体薄片、荧光体的制造方法以及使用该荧光体的发光装置 [P].

后藤昌大 ;

坂根坚之 .

中国专利 :CN101522859B ,2009-09-02

[10]

表面处理荧光体的制造方法、表面处理荧光体、波长转换部件以及发光装置 [P].

柴本真治 ;

大盐祥三 ;

山崎圭一 ;

宫崎惠美 ;

文菂 .

中国专利 :CN106459750A ,2017-02-22

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