表面被覆荧光体粒子、表面被覆荧光体粒子的制造方法及发光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080027647.7

申请日：

2020-03-31

公开(公告)号：

CN113677775A

公开(公告)日：

2021-11-19

发明(设计)人：

赤羽雅斗江本秀幸

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C09K1108

IPC分类号：

C09K1164 H01L3350

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李书慧;朝鲁门

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-07	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 11/08 申请日:20200331
2021-11-19	公开	公开

共 50 条

[1]

表面被覆荧光体粒子、表面被覆荧光体粒子的制造方法以及发光装置 [P].

赤羽雅斗 ;

江本秀幸 .

日本专利 :CN113785030B ,2024-02-23

[2]

表面被覆荧光体粒子、表面被覆荧光体粒子的制造方法以及发光装置 [P].

赤羽雅斗 ;

江本秀幸 .

中国专利 :CN113785030A ,2021-12-10

[3]

表面被覆荧光体粒子和发光装置 [P].

赤羽雅斗 ;

江本秀幸 .

中国专利 :CN113891926A ,2022-01-04

[4]

荧光体粒子、复合体、发光装置和荧光体粒子的制造方法 [P].

野见山智宏 ;

武田雄介 ;

高村麻里奈 ;

奥园达也 ;

宫崎胜 ;

渡边真太郎 .

中国专利 :CN113710771B ,2021-11-26

[5]

荧光体粒子、复合体、发光装置和荧光体粒子的制造方法 [P].

野见山智宏 ;

武田雄介 ;

高村麻里奈 ;

奥园达也 ;

宫崎胜 ;

渡边真太郎 .

中国专利 :CN113692437B ,2021-11-23

[6]

含荧光体粒子以及使用该含荧光体粒子的发光装置、含荧光体薄片 [P].

两轮达也 ;

中田加奈子 ;

福永浩史 ;

和泉真 .

中国专利 :CN109021963A ,2018-12-18

[7]

表面处理荧光体及表面处理荧光体的制造方法 [P].

孙仁德 ;

中谷康弘 ;

大村贵宏 .

中国专利 :CN103052699A ,2013-04-17

[8]

荧光体、发光装置及荧光体的制造方法 [P].

福田由美 ;

阿尔贝萨惠子 ;

三石岩 .

中国专利 :CN104059643A ,2014-09-24

[9]

荧光体、荧光体的制造方法及发光装置 [P].

碓井大地 ;

白川康博 ;

竹村博文 ;

石井努 .

中国专利 :CN103827260B ,2014-05-28

[10]

荧光体、荧光体的制造方法及发光装置 [P].

碓井大地 ;

白川康博 ;

竹村博文 ;

石井努 .

中国专利 :CN104204134B ,2014-12-10

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