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用于物理气相沉积腔室的沉积环及静电夹盘
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201180045703.0
申请日
:
2011-10-07
公开(公告)号
:
CN103140913A
公开(公告)日
:
2013-06-05
发明(设计)人
:
M·拉希德
K·A·米勒
R·王
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01L21203
IPC分类号
:
H01L21683
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
陆勍;刘佳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-09-28
授权
授权
2013-12-04
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101548121819 IPC(主分类):H01L 21/203 专利申请号:2011800457030 申请日:20111007
2013-06-05
公开
公开
共 50 条
[1]
用于物理气相沉积腔室的沉积环及静电夹盘
[P].
M·拉希德
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0
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M·拉希德
;
K·A·米勒
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K·A·米勒
;
R·王
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R·王
.
中国专利
:CN105177519B
,2015-12-23
[2]
用于物理气相沉积腔室的沉积环及静电夹盘
[P].
M·拉希德
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M·拉希德
;
K·A·米勒
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K·A·米勒
;
R·王
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R·王
.
中国专利
:CN108359957A
,2018-08-03
[3]
沉积环(用于物理气相沉积腔室)
[P].
大卫·冈瑟
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大卫·冈瑟
;
蔡振雄
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蔡振雄
;
希兰库玛·尼拉桑德拉·萨万戴亚
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希兰库玛·尼拉桑德拉·萨万戴亚
.
中国专利
:CN305627489S
,2020-02-21
[4]
静电吸盘、物理气相沉积腔室及物理气相沉积设备
[P].
李昇聪
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
李昇聪
.
中国专利
:CN220767151U
,2024-04-12
[5]
用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备
[P].
陈杰锋
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陈杰锋
;
张辉
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张辉
.
中国专利
:CN108950510A
,2018-12-07
[6]
用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备
[P].
陈杰锋
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陈杰锋
;
李理
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李理
.
中国专利
:CN208667840U
,2019-03-29
[7]
用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备
[P].
白志民
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白志民
;
李萌
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李萌
;
邱国庆
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邱国庆
;
佘清
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佘清
;
王厚工
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王厚工
;
赵梦欣
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赵梦欣
;
丁培军
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丁培军
.
中国专利
:CN106637124A
,2017-05-10
[8]
物理气相沉积腔室和物理气相沉积设备
[P].
郭宏瑞
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郭宏瑞
;
李冰
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李冰
;
黄其伟
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黄其伟
.
中国专利
:CN110885965A
,2020-03-17
[9]
用于物理气相沉积的腔室
[P].
R·欣特舒斯特
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R·欣特舒斯特
;
L·利珀特
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L·利珀特
.
中国专利
:CN102918622B
,2013-02-06
[10]
沉积设备以及物理气相沉积腔室
[P].
张军
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张军
;
董博宇
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董博宇
;
赵晋荣
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赵晋荣
;
武学伟
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武学伟
;
郭冰亮
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郭冰亮
;
徐宝岗
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徐宝岗
;
张鹤南
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张鹤南
;
王桐
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王桐
;
刘绍辉
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刘绍辉
;
王军
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王军
.
中国专利
:CN107488832B
,2017-12-19
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