用于光刻装置的对准标记、对准系统及其对准方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910045415.X

申请日：

2009-01-15

公开(公告)号：

CN101581889B

公开(公告)日：

2009-11-18

发明(设计)人：

胡明辉宋海军王海江

申请人：

申请人地址：

201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-05-21	授权	授权
2009-11-18	公开	公开
2010-01-13	实质审查的生效	实质审查的生效
2017-05-31	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101752122237 IPC(主分类):G03F 9/00 专利号:ZL200910045415X 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更事项:共同专利权人变更前:上海微高精密机械工程有限公司变更后:上海微高精密机械工程有限公司

共 50 条

[1]

用于光刻装置的对准系统及对准方法 [P].

胡明辉 ;

李运锋 .

中国专利 :CN102207695A ,2011-10-05

[2]

用于光刻装置的对准系统、光刻装置及其对准方法 [P].

徐荣伟 .

中国专利 :CN101551593A ,2009-10-07

[3]

用于光刻装置的对准系统和标记、对准方法以及光刻装置 [P].

徐荣伟 ;

韦学志 ;

杜聚有 .

中国专利 :CN101251725A ,2008-08-27

[4]

用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记 [P].

李运锋 ;

韦学志 ;

徐荣伟 ;

宋海军 .

中国专利 :CN101303533B ,2008-11-12

[5]

对准系统及对准标记 [P].

郑谕潍 ;

陈建豪 .

中国专利 :CN114384769B ,2024-05-14

[6]

对准系统和对准标记 [P].

李运锋 ;

韦学志 ;

徐荣伟 ;

陈勇辉 ;

周畅 .

中国专利 :CN100527000C ,2008-04-09

[7]

具有对准标记体系的机器视觉对准系统及其对准方法 [P].

徐兵 ;

周畅 ;

蔡巍 ;

谢威 ;

周金明 .

中国专利 :CN101241319B ,2008-08-13

[8]

对准系统及对准标记 [P].

郑谕潍 ;

陈建豪 .

中国专利 :CN114384769A ,2022-04-22

[9]

掩膜对准标记组合、掩膜对准系统、光刻装置及其方法 [P].

陈小娟 ;

忻斌杰 ;

李术新 .

中国专利 :CN111752112B ,2020-10-09

[10]

测量对准标记或对准标记组件的方法、对准系统和光刻工具 [P].

F·G·C·比杰南 ;

R·布林克霍夫 .

中国专利 :CN113632013A ,2021-11-09

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