低温二氧化硅薄膜的形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201210229099.3
申请日
2012-07-03
公开(公告)号
CN102820220A
公开(公告)日
2012-12-12
发明(设计)人
张文广 陈玉文
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号
IPC主分类号
H01L213105
IPC分类号
代理机构
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
陆花
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
低温二氧化硅薄膜的形成方法 [P]. 
张文广 ;
陈玉文 .
中国专利 :CN102832119A ,2012-12-19
[2]
低温二氧化硅薄膜的形成方法 [P]. 
张文广 ;
陈玉文 .
中国专利 :CN102820219A ,2012-12-12
[3]
低温二氧化硅薄膜的形成方法 [P]. 
张文广 ;
陈玉文 .
中国专利 :CN102820221A ,2012-12-12
[4]
二氧化硅薄膜及含二氧化硅薄膜元件的制造方法 [P]. 
李钱陶 ;
李定 ;
王潺 ;
金天义 ;
熊长新 .
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[5]
沉积二氧化硅薄膜的方法 [P]. 
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安德鲁·普赖斯 ;
马克·卡拉瑟斯 ;
丹尼尔·阿查德 ;
斯蒂芬·伯吉斯 .
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[6]
二氧化硅薄膜的制备方法 [P]. 
周国平 ;
夏长奉 .
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[7]
二氧化硅薄膜的形成方法和金属栅极的形成方法 [P]. 
卢经文 ;
冯伟 ;
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[8]
二氧化硅薄膜及其制备方法 [P]. 
阮勇 ;
尤政 ;
魏启鹏 ;
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[9]
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[10]
二氧化硅薄膜的制备方法 [P]. 
阮勇 ;
尤政 ;
范成林 ;
刘通 .
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