一种电容屏磁控溅射镀膜的靶材结构

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201820018950.0

申请日：

2018-01-05

公开(公告)号：

CN208395260U

公开(公告)日：

2019-01-18

发明(设计)人：

卫金照赵永刚刘敬超

申请人：

申请人地址：

517000 广东省河源市高新区科技八路以南兴工大道以东(车间)

IPC主分类号：

C23C1435

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-18	授权	授权

共 50 条

[1]

一种磁控溅射镀膜磁性靶材 [P].

周其刚 ;

李宪民 ;

戴慧敏 .

中国专利 :CN214782106U ,2021-11-19

[2]

一种磁控溅射镀膜设备中的靶材结构 [P].

李景顺 ;

易镜明 .

中国专利 :CN201512578U ,2010-06-23

[3]

磁控溅射镀膜用的靶材组成及磁控溅射镀膜装置 [P].

李长春 ;

蒙峻 ;

焦纪强 ;

罗成 ;

魏宁斐 ;

刘建龙 ;

姚鹏 .

中国专利 :CN121065643A ,2025-12-05

[4]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[5]

一种磁控溅射镀膜靶材及镀膜装置 [P].

刘保国 .

中国专利 :CN218089777U ,2022-12-20

[6]

一种用于柔性基材磁控溅射镀膜靶材 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN202688425U ,2013-01-23

[7]

一种磁控溅射镀膜设备的靶材冷却背板 [P].

任文斌 ;

代绍明 .

中国专利 :CN223189248U ,2025-08-05

[8]

一种降低磁场强度的磁控溅射镀膜设备靶材结构 [P].

卫金照 ;

赵永刚 ;

刘敬超 .

中国专利 :CN203559119U ,2014-04-23

[9]

一种用于提高磁控溅射镀膜靶材利用率的靶材 [P].

周航锋 ;

贺伟 ;

侍进山 ;

徐博文 ;

李景 ;

李信 ;

陈武 ;

万禄兵 .

中国专利 :CN203947153U ,2014-11-19

[10]

靶材小车的行走限位结构和磁控溅射镀膜装置 [P].

臧世伟 .

中国专利 :CN222008011U ,2024-11-15

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