一种磁控溅射镀膜磁性靶材

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202023303473.9

申请日：

2020-12-30

公开(公告)号：

CN214782106U

公开(公告)日：

2021-11-19

发明(设计)人：

周其刚李宪民戴慧敏

申请人：

申请人地址：

211100 江苏省南京市江宁经济技术开发区铺岗街379号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

南京纵横知识产权代理有限公司 32224

代理人：

董建林

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-19	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[2]

一种磁控溅射镀膜靶材及镀膜装置 [P].

刘保国 .

中国专利 :CN218089777U ,2022-12-20

[3]

一种用于柔性基材磁控溅射镀膜靶材 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN202688425U ,2013-01-23

[4]

磁控溅射镀膜用的靶材组成及磁控溅射镀膜装置 [P].

李长春 ;

蒙峻 ;

焦纪强 ;

罗成 ;

魏宁斐 ;

刘建龙 ;

姚鹏 .

中国专利 :CN121065643A ,2025-12-05

[5]

镀膜靶材磁控溅射成型装置 [P].

李晨 ;

李洪亮 ;

董悦悦 ;

张乐 ;

张洪浩 ;

王金华 ;

魏聪 .

中国专利 :CN222861609U ,2025-05-13

[6]

金属靶材磁控溅射镀膜机 [P].

王国庆 .

中国专利 :CN222557040U ,2025-03-04

[7]

一种靶材冷却背板及磁控溅射镀膜设备 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

边逸军 ;

王学泽 ;

龚祖光 .

中国专利 :CN212925153U ,2021-04-09

[8]

一种磁控溅射镀膜设备的靶材冷却背板 [P].

任文斌 ;

代绍明 .

中国专利 :CN223189248U ,2025-08-05

[9]

一种磁控溅射镀膜设备中的靶材结构 [P].

李景顺 ;

易镜明 .

中国专利 :CN201512578U ,2010-06-23

[10]

一种电容屏磁控溅射镀膜的靶材结构 [P].

卫金照 ;

赵永刚 ;

刘敬超 .

中国专利 :CN208395260U ,2019-01-18

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