半导体器件和半导体器件的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201410016445.9
申请日
2014-01-14
公开(公告)号
CN104425295A
公开(公告)日
2015-03-18
发明(设计)人
白野贵士 东和幸 渡边慎也 右田达夫
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L2160
IPC分类号
H01L2348
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
徐健;陈海红
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件和半导体器件的制造方法 [P]. 
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[2]
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[5]
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聂碧颖 ;
储金星 ;
何濠启 ;
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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