保护膜形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811367054.6

申请日：

2018-11-16

公开(公告)号：

CN109860021A

公开(公告)日：

2019-06-07

发明(设计)人：

塚泽尚悟萧志翔石田雅史高桥豊远藤笃史

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L2167 H01L21673

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-06-07	公开	公开
2020-05-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20181116

共 50 条

[1]

保护膜形成方法 [P].

塚泽尚悟 ;

萧志翔 ;

石田雅史 ;

高桥豊 ;

远藤笃史 .

日本专利 :CN109860021B ,2024-04-12

[2]

保护膜形成方法以及保护膜形成装置 [P].

上谷一夫 ;

沟上要 ;

大江良尚 ;

盐川晃 ;

加道博行 .

中国专利 :CN101090991A ,2007-12-19

[3]

保护膜的形成方法 [P].

邓三军 .

中国专利 :CN120366695A ,2025-07-25

[4]

保护膜的形成方法 [P].

上田国博 ;

方宏新 ;

王东 ;

小西善之 ;

上野智子 ;

冈田繁信 .

中国专利 :CN101452706B ,2009-06-10

[5]

保护膜形成方法、保护膜形成用材料及研磨性保护膜形成用薄板 [P].

大原稔 ;

妻鹿雅彦 .

中国专利 :CN1463302A ,2003-12-24

[6]

等离子显示保护膜形成装置和保护膜形成方法 [P].

仓内利春 ;

箱守宗人 ;

内田一也 ;

增田行男 ;

冈田俊弘 ;

池田裕人 ;

织井雄一 ;

饭岛荣一 .

中国专利 :CN1271241C ,2002-05-29

[7]

保护膜制剂和形成保护膜的方法 [P].

天野繁久 .

中国专利 :CN1926262A ,2007-03-07

[8]

保护膜形成方法及设备 [P].

金学权 ;

刘永帅 ;

张雪锋 ;

汪正红 .

中国专利 :CN107552362A ,2018-01-09

[9]

固化性树脂组合物、保护膜和保护膜的形成方法 [P].

藤冈昌泰 ;

饭岛孝浩 ;

上田二朗 ;

花村政晓 ;

山内英树 ;

谷本加奈子 .

中国专利 :CN101646718B ,2010-02-10

[10]

保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法 [P].

高濑英明 ;

上田二朗 ;

藤冈昌泰 ;

谷本加奈子 .

中国专利 :CN101609256B ,2009-12-23

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