等离子显示保护膜形成装置和保护膜形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01137043.2

申请日：

2001-10-19

公开(公告)号：

CN1271241C

公开(公告)日：

2002-05-29

发明(设计)人：

仓内利春箱守宗人内田一也增田行男冈田俊弘池田裕人织井雄一饭岛荣一

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

C23C1430

IPC分类号：

C03C17245

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

何腾云

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/30 申请日:20011019 授权公告日:20060823 终止日期:20191019
2003-09-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-08-23	授权	授权
2002-05-29	公开	公开

共 50 条

[1]

保护膜形成方法以及保护膜形成装置 [P].

上谷一夫 ;

沟上要 ;

大江良尚 ;

盐川晃 ;

加道博行 .

中国专利 :CN101090991A ,2007-12-19

[2]

保护膜形成方法 [P].

塚泽尚悟 ;

萧志翔 ;

石田雅史 ;

高桥豊 ;

远藤笃史 .

日本专利 :CN109860021B ,2024-04-12

[3]

保护膜形成方法 [P].

塚泽尚悟 ;

萧志翔 ;

石田雅史 ;

高桥豊 ;

远藤笃史 .

中国专利 :CN109860021A ,2019-06-07

[4]

多层保护膜的形成方法和多层保护膜的形成装置 [P].

高藤哲也 ;

渡边幸夫 .

中国专利 :CN104250724A ,2014-12-31

[5]

保护膜形成方法、保护膜形成用材料及研磨性保护膜形成用薄板 [P].

大原稔 ;

妻鹿雅彦 .

中国专利 :CN1463302A ,2003-12-24

[6]

保护膜制剂和形成保护膜的方法 [P].

天野繁久 .

中国专利 :CN1926262A ,2007-03-07

[7]

保护膜形成装置 [P].

吉田博斗 .

中国专利 :CN110176412A ,2019-08-27

[8]

保护膜形成装置 [P].

吉田博斗 .

日本专利 :CN110176412B ,2024-05-31

[9]

保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及检查方法 [P].

山本大辅 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN106415819A ,2017-02-15

[10]

保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及检查方法 [P].

山本大辅 ;

米山裕之 .

中国专利 :CN112563181A ,2021-03-26

← 1 2 3 4 5 →