多层保护膜的形成方法和多层保护膜的形成装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410299457.7

申请日：

2014-06-26

公开(公告)号：

CN104250724A

公开(公告)日：

2014-12-31

发明(设计)人：

高藤哲也渡边幸夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1640

IPC分类号：

C23C1642 C23C1644

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-05-29	授权	授权
2015-11-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101634278447 IPC(主分类):C23C 16/40 专利申请号:2014102994577 申请日:20140626
2014-12-31	公开	公开

共 50 条

[1]

保护膜形成方法以及保护膜形成装置 [P].

上谷一夫 ;

沟上要 ;

大江良尚 ;

盐川晃 ;

加道博行 .

中国专利 :CN101090991A ,2007-12-19

[2]

保护膜制剂和形成保护膜的方法 [P].

天野繁久 .

中国专利 :CN1926262A ,2007-03-07

[3]

等离子显示保护膜形成装置和保护膜形成方法 [P].

仓内利春 ;

箱守宗人 ;

内田一也 ;

增田行男 ;

冈田俊弘 ;

池田裕人 ;

织井雄一 ;

饭岛荣一 .

中国专利 :CN1271241C ,2002-05-29

[4]

保护膜的形成方法 [P].

上田国博 ;

方宏新 ;

王东 ;

小西善之 ;

上野智子 ;

冈田繁信 .

中国专利 :CN101452706B ,2009-06-10

[5]

保护膜的形成方法 [P].

邓三军 .

中国专利 :CN120366695A ,2025-07-25

[6]

保护膜形成方法 [P].

塚泽尚悟 ;

萧志翔 ;

石田雅史 ;

高桥豊 ;

远藤笃史 .

日本专利 :CN109860021B ,2024-04-12

[7]

保护膜形成方法 [P].

塚泽尚悟 ;

萧志翔 ;

石田雅史 ;

高桥豊 ;

远藤笃史 .

中国专利 :CN109860021A ,2019-06-07

[8]

多层保护膜 [P].

王永忠 ;

M·加切克 ;

T·伯格斯特雷瑟 .

美国专利 :CN118382535A ,2024-07-23

[9]

保护膜形成方法、保护膜形成用材料及研磨性保护膜形成用薄板 [P].

大原稔 ;

妻鹿雅彦 .

中国专利 :CN1463302A ,2003-12-24

[10]

保护膜形成膜、保护膜形成用复合片、及带保护膜形成膜的工件的运送方法 [P].

小桥力也 .

日本专利 :CN113444271B ,2024-03-19

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