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光照射装置和光照射方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110222281.1
申请日
:
2011-08-04
公开(公告)号
:
CN102419516A
公开(公告)日
:
2012-04-18
发明(设计)人
:
仲田重范
川村直树
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
G02B530
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
夏斌;陈萍
法律状态
:
授权
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-01-28
授权
授权
2013-06-12
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101470321853 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011102222811 申请日:20110804
2012-04-18
公开
公开
共 50 条
[1]
光照射装置和光照射方法
[P].
山川明朗
论文数:
0
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0
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山川明朗
;
田中健二
论文数:
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田中健二
;
伊藤辉将
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伊藤辉将
.
中国专利
:CN101783150B
,2010-07-21
[2]
光照射装置和光照射方法
[P].
泷口优
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泷口优
.
中国专利
:CN106687852A
,2017-05-17
[3]
光照射装置和光照射方法
[P].
小田晃司
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小田晃司
.
中国专利
:CN115701368A
,2023-02-10
[4]
光照射装置、光照射方法
[P].
信田和彦
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信田和彦
.
中国专利
:CN110536873A
,2019-12-03
[5]
光照射装置的光照射方法以及光照射装置
[P].
远藤茂
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远藤茂
;
羽田野宪彦
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羽田野宪彦
;
门胁徹二
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门胁徹二
.
中国专利
:CN101978308A
,2011-02-16
[6]
光照射装置及光照射方法
[P].
信田和彦
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信田和彦
;
中岛敏博
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中岛敏博
.
中国专利
:CN108367976B
,2018-08-03
[7]
光照射装置以及光照射方法
[P].
丸山健治
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机构:
艾美柯技术株式会社
艾美柯技术株式会社
丸山健治
;
末兼大輔
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机构:
艾美柯技术株式会社
艾美柯技术株式会社
末兼大輔
;
稲尾吉浩
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机构:
艾美柯技术株式会社
艾美柯技术株式会社
稲尾吉浩
.
日本专利
:CN118550161A
,2024-08-27
[8]
光照射装置、及光照射方法
[P].
森淳
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森淳
;
井口胜次
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井口胜次
;
青木仁志
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青木仁志
;
森田明理
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森田明理
;
益田秀之
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益田秀之
;
木村诚
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木村诚
.
中国专利
:CN112020379A
,2020-12-01
[9]
光照射装置及光照射方法
[P].
小林贤治
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小林贤治
.
中国专利
:CN102056658B
,2011-05-11
[10]
光照射装置、光照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6984187B2
,2021-12-17
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