一种减少SiC晶体生长中缺陷产生的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610750958.1
申请日
2016-08-30
公开(公告)号
CN106245110B
公开(公告)日
2016-12-21
发明(设计)人
郑清超 杨坤
申请人
申请人地址
071051 河北省保定市北二环路5699号大学科技园6号楼B座四楼
IPC主分类号
C30B2300
IPC分类号
C30B2936
代理机构
北京连城创新知识产权代理有限公司 11254
代理人
郝学江
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
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[10]
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