使用非对称亚分辨率特征改善测量的光刻过程的光学量测术

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680073976.9

申请日：

2016-11-29

公开(公告)号：

CN108369387B

公开(公告)日：

2018-08-03

发明(设计)人：

罗伯特·约翰·索卡 T·L·瓦洛

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王静

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-08-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20161129
2020-11-03	授权	授权
2018-08-03	公开	公开

共 10 条

[1]

光刻过程中的量测 [P].

S·G·J·马西森 ;

M·J·J·杰克 ;

K·巴塔查里亚 .

中国专利 :CN111095112B ,2020-05-01

[2]

基于非对称纹理及深度分辨率的视图合成 [P].

陈颖 ;

卡西克·维拉 ;

建·魏 .

中国专利 :CN104221385A ,2014-12-17

[3]

测量与使用光刻过程形成的结构有关的聚焦参数的方法 [P].

李发宏 ;

S·索科洛夫 .

中国专利 :CN113168112A ,2021-07-23

[4]

测量与使用光刻过程形成的结构有关的聚焦参数的方法 [P].

李发宏 ;

S·索科洛夫 .

:CN113168112B ,2024-08-13

[5]

使用局部匹配进行高分辨率标测的医疗装置 [P].

P·H·塔库 ;

A·C·舒罗斯 ;

B·马斯卡拉 ;

S·肖姆 ;

S·阿科特-克里希纳穆尔蒂 ;

S·萨哈 ;

S·A·梅尔 .

中国专利 :CN105636513A ,2016-06-01

[6]

使用图案化晶片几何测量的过程引发的非对称检测、量化及控制 [P].

佩拉迪·悟卡达拉 ;

J·K·辛哈 ;

J（钟）·金 .

中国专利 :CN107683475B ,2018-02-09

[7]

用于反射和透射纳米光子器件的高吞吐量、高分辨率光学计量 [P].

S·V·斯瑞尼瓦桑 ;

B·加夫利克 ;

S·辛格尔 .

中国专利 :CN110139827A ,2019-08-16

[8]

一种使用低分辨率相机读取离散多码的光学系统 [P].

李亭 .

中国专利 :CN213276660U ,2021-05-25

[9]

一种使用低分辨率相机读取离散多码的光学系统及方法 [P].

李亭 .

中国专利 :CN112101054A ,2020-12-18

[10]

一种使用低分辨率相机读取离散多码的光学系统及方法 [P].

李亭 .

中国专利 :CN112101054B ,2024-11-26