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一种低温容性和感性复合耦合射频等离子体反应器及其使用方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910470776.2
申请日
:
2019-05-31
公开(公告)号
:
CN110113856A
公开(公告)日
:
2019-08-09
发明(设计)人
:
高松华
高立华
申请人
:
申请人地址
:
365000 福建省三明市三元区荆东路25号
IPC主分类号
:
H05H146
IPC分类号
:
代理机构
:
厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222
代理人
:
杨玉芳
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-08-09
公开
公开
2019-10-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/46 申请日:20190531
共 50 条
[1]
一种低温容性和感性复合耦合射频等离子体反应器
[P].
高松华
论文数:
0
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0
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0
高松华
;
高立华
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0
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高立华
.
中国专利
:CN210469842U
,2020-05-05
[2]
低真空低温射频感性耦合等离子体反应器及其使用方法
[P].
高松华
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高松华
;
高立华
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高立华
;
陈礼炜
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0
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陈礼炜
.
中国专利
:CN104368288A
,2015-02-25
[3]
低真空低温射频感性耦合等离子体反应器
[P].
高松华
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高松华
;
高立华
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高立华
;
陈礼炜
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陈礼炜
.
中国专利
:CN204275958U
,2015-04-22
[4]
一种低真空低温射频容性耦合等离子体反应器
[P].
高松华
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高松华
;
高立华
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高立华
;
陈礼炜
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0
陈礼炜
.
中国专利
:CN205160893U
,2016-04-13
[5]
容性耦合等离子体反应器
[P].
魏淳任
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0
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0
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魏淳任
.
中国专利
:CN101420816A
,2009-04-29
[6]
一种简易常压低温射频等离子体反应器
[P].
高松华
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高松华
;
高立华
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高立华
;
陈礼炜
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陈礼炜
.
中国专利
:CN204289365U
,2015-04-22
[7]
等离子体反应器及其射频功率分布调节方法
[P].
左涛涛
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0
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0
机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
左涛涛
;
吴狄
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
吴狄
.
中国专利
:CN113496862B
,2024-09-06
[8]
等离子体反应器及其射频功率分布调节方法
[P].
左涛涛
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左涛涛
;
吴狄
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吴狄
.
中国专利
:CN113496862A
,2021-10-12
[9]
低温等离子体反应器
[P].
张婧
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张婧
;
张树才
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张树才
;
任君朋
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任君朋
;
徐伟
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徐伟
;
张铁
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张铁
;
石宁
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0
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石宁
;
金满平
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0
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金满平
.
中国专利
:CN208553684U
,2019-03-01
[10]
低温等离子体反应器
[P].
黄毅
论文数:
0
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0
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0
黄毅
.
中国专利
:CN210675147U
,2020-06-05
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