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抛光设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810092011.1
申请日
:
2008-01-30
公开(公告)号
:
CN101254586A
公开(公告)日
:
2008-09-03
发明(设计)人
:
齐藤贤一郎
锅谷治
永田公秀
户川哲二
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
B24B2900
IPC分类号
:
H01L21304
B24B4904
B24B5312
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司
代理人
:
刘佳斐
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-03-12
授权
授权
2009-10-14
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-09-03
公开
公开
共 50 条
[1]
抛光设备
[P].
锅谷治
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锅谷治
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户川哲二
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户川哲二
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安田穗积
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安田穗积
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斋藤康二
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斋藤康二
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福岛诚
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福岛诚
.
中国专利
:CN103252714A
,2013-08-21
[2]
抛光设备
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锅谷治
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锅谷治
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户川哲二
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户川哲二
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安田穗积
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安田穗积
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斋藤康二
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斋藤康二
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福岛诚
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福岛诚
.
中国专利
:CN106078495A
,2016-11-09
[3]
抛光设备
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锅谷治
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锅谷治
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户川哲二
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户川哲二
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安田穗积
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安田穗积
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斋藤康二
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斋藤康二
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福岛诚
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福岛诚
.
中国专利
:CN101422874A
,2009-05-06
[4]
衬底抛光设备
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广川一人
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广川一人
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中井俊辅
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中井俊辅
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大田真朗
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大田真朗
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和田雄高
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和田雄高
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小林洋一
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小林洋一
.
中国专利
:CN1791490B
,2006-06-21
[5]
抛光设备
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锅谷治
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锅谷治
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户川哲二
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户川哲二
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福岛诚
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福岛诚
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安田穗积
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安田穗积
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中国专利
:CN104044057A
,2014-09-17
[6]
抛光设备
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锅谷治
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锅谷治
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户川哲二
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户川哲二
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安田穗积
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安田穗积
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中国专利
:CN102513920A
,2012-06-27
[7]
抛光设备
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锅谷治
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户川哲二
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安田穗积
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安田穗积
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中国专利
:CN101585164A
,2009-11-25
[8]
抛光设备
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锅谷治
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户川哲二
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安田穗积
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安田穗积
.
中国专利
:CN100466191C
,2007-10-10
[9]
抛光设备
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锅谷治
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锅谷治
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户川哲二
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安田穗积
.
中国专利
:CN105904335A
,2016-08-31
[10]
抛光设备
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锅谷治
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锅谷治
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户川哲二
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安田穗积
.
中国专利
:CN101934491B
,2011-01-05
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