抛光设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810174959.1

申请日：

2008-10-28

公开(公告)号：

CN101422874A

公开(公告)日：

2009-05-06

发明(设计)人：

锅谷治户川哲二安田穗积斋藤康二福岛诚

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B24B2902

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

蔡洪贵

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-05-06	公开	公开
2010-12-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101019281906 IPC(主分类):B24B 29/02 专利申请号:2008101749591 申请日:20081028
2013-04-24	授权	授权

共 50 条

[1]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

安田穗积 ;

斋藤康二 ;

福岛诚 .

中国专利 :CN103252714A ,2013-08-21

[2]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

安田穗积 ;

斋藤康二 ;

福岛诚 .

中国专利 :CN106078495A ,2016-11-09

[3]

抛光设备 [P].

齐藤贤一郎 ;

锅谷治 ;

永田公秀 ;

户川哲二 .

中国专利 :CN101254586A ,2008-09-03

[4]

衬底抛光设备 [P].

广川一人 ;

中井俊辅 ;

大田真朗 ;

和田雄高 ;

小林洋一 .

中国专利 :CN1791490B ,2006-06-21

[5]

基片抛光设备和基片抛光方法 [P].

户川哲二 ;

深谷孝一 ;

多田光男 ;

高桥太郎 ;

须藤康成 .

中国专利 :CN1809444A ,2006-07-26

[6]

抛光设备和方法 [P].

安田穗积 ;

福岛诚 ;

户川哲二 .

中国专利 :CN101444897A ,2009-06-03

[7]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

福岛诚 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN104044057A ,2014-09-17

[8]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

福岛诚 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN102513920A ,2012-06-27

[9]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

福岛诚 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN101585164A ,2009-11-25

[10]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

福岛诚 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN100466191C ,2007-10-10

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