抛光设备和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810178331.9

申请日：

2008-11-28

公开(公告)号：

CN101444897A

公开(公告)日：

2009-06-03

发明(设计)人：

安田穗积福岛诚户川哲二

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B24B2902

IPC分类号：

H01L2100 B24B4908

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

王琼

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-06-03	公开	公开
2012-10-03	授权	授权
2010-12-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101020716451 IPC(主分类):B24B 29/02 专利申请号:2008101783319 申请日:20081128

共 50 条

[1]

基片抛光设备和基片抛光方法 [P].

户川哲二 ;

深谷孝一 ;

多田光男 ;

高桥太郎 ;

须藤康成 .

中国专利 :CN1809444A ,2006-07-26

[2]

抛光设备和抛光方法 [P].

小林洋一 ;

广尾康正 ;

大桥刚 .

中国专利 :CN1972780B ,2007-05-30

[3]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

安田穗积 ;

斋藤康二 ;

福岛诚 .

中国专利 :CN103252714A ,2013-08-21

[4]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

福岛诚 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN104044057A ,2014-09-17

[5]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

福岛诚 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN102513920A ,2012-06-27

[6]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

福岛诚 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN101585164A ,2009-11-25

[7]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

安田穗积 ;

斋藤康二 ;

福岛诚 .

中国专利 :CN106078495A ,2016-11-09

[8]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

安田穗积 ;

斋藤康二 ;

福岛诚 .

中国专利 :CN101422874A ,2009-05-06

[9]

抛光设备 [P].

齐藤贤一郎 ;

锅谷治 ;

永田公秀 ;

户川哲二 .

中国专利 :CN101254586A ,2008-09-03

[10]

抛光设备 [P].

锅谷治 ;

户川哲二 ;

福岛诚 ;

安田穗积 .

中国专利 :CN100466191C ,2007-10-10

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